[發明專利]一種單面壓力注漿成型模具及ITO平面靶的制造方法

有效

• 申請號: 201810758424.2
• 申請日: 2018-07-11
• 公開（公告）號: CN109079963B
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發明（設計）人: 楊碩;孫冰;謝斌;方宏;李重理
• 申請（專利權）人: 中國船舶重工集團公司第七二五研究所
• 主分類號: B28B1/26
• 分類號: B28B1/26
• 代理公司: 洛陽公信知識產權事務所(普通合伙) 41120
• 代理人: 孫笑飛

1.一種利用單面壓力注漿成型模具制造ITO平面靶的方法，所述單面壓力注漿成型模具包括上模和下模，所述上模包括外部的上模框（1）和內部的上石膏模（2），下模包括外部的下模框（3）和內部的下石膏模（4），所述上石膏模（2）和下石膏模（4）拼合形成坯體型腔（5），坯體型腔（5）與進漿管路（6）連接，在上石膏模（2）與上模框（1）之間，以及下石膏模（4）與下模框（3）之間均填充有樹脂（7）；所述上石膏模（2）和下石膏模（4）內部均分布有連通其上下端面的孔隙；

將In₂O₃和SnO₂原料粉制成ITO漿料后注入成型模具的坯體型腔中，坯體成型并脫模后經脫脂、燒結，制成ITO靶材，其特征在于：上石膏模（2）與其上部的樹脂（7）之間設有與進氣管路（8）連接的密閉腔（9），下石膏模（4）的下方設有排水管路（10）；將ITO漿料注入坯體型腔之后，向上石膏模與樹脂之間設置的密閉腔內通入壓縮空氣，使空氣從上石膏模中的孔隙進入坯體型腔對ITO漿料施壓，并在壓力作用下使ITO漿料中的水分從下石膏模中的孔隙排出；水分排出后，將密閉腔卸壓至常壓，重復向坯體型腔注入ITO漿料以及向密閉腔通入壓縮空氣的操作，使坯體厚度不斷增加；在坯體的厚度增加至接近型腔頂面時，將密閉腔卸壓至常壓，用1.0~1.5MPa壓縮空氣將ITO漿料從進漿管路壓入坯體型腔，填充坯體型腔內上方剩余的區域，并保壓15~20min，使ITO漿料內的水分滲入上石膏模的孔隙中。

2.如權利要求1所述的利用單面壓力注漿成型模具制造ITO平面靶的方法，其特征在于：所述的密閉腔（9）覆蓋上石膏模（2）的整個上表面，密閉腔（9）的頂部呈向上拱起的球冠形。

3.如權利要求1所述的利用單面壓力注漿成型模具制造ITO平面靶的方法，其特征在于：所述上石膏模（2）和下石膏模（4）內部孔隙尺寸為1.5~3μm。

4.如權利要求1所述的利用單面壓力注漿成型模具制造ITO平面靶的方法，其特征在于：所述的排水管路（10）分布在下石膏模（4）的下方，排水管路（10）一端穿過樹脂（7）并延伸至下石膏模（4）下表面，另一端連接至排水集管（11）。

5.如權利要求1所述的利用單面壓力注漿成型模具制造ITO平面靶的方法，其特征在于：向坯體型腔注入ITO漿料的過程中，用0.05~0.1MPa壓縮空氣將ITO漿料從進漿管路壓入坯體型腔。

6.如權利要求1所述的利用單面壓力注漿成型模具制造ITO平面靶的方法，其特征在于：通過進氣管路向密閉腔內通入0.8~1.2MPa的壓縮空氣，并持續保壓15~20min，在空氣壓力作用下使ITO漿料中的水分從下石膏模中的孔隙排出。

7.如權利要求1所述的利用單面壓力注漿成型模具制造ITO平面靶的方法，其特征在于：脫模過程中，先通過進氣管路向密閉腔內通入壓縮空氣，使空氣壓力經上石膏模的孔隙作用在坯體上，從而使坯體與上模脫離，然后向排水管路中通入壓縮空氣，使空氣壓力經下石膏模的孔隙作用在坯體上，從而使坯體與下模脫離。