[發(fā)明專利]InSb薄膜轉(zhuǎn)移裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810758136.7
• 申請(qǐng)日: 2018-07-11
• 公開（公告）號(hào): CN108682646A
• 公開（公告）日: 2018-10-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳意橋;馬棟梁
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州焜原光電有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 昆山中際國(guó)創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32311
• 代理人: 盛建德

1.一種InSb薄膜轉(zhuǎn)移裝置，其特征在于：包括依次連接的進(jìn)樣反轉(zhuǎn)室、薄膜轉(zhuǎn)移室以及伸縮壓力裝置；所述薄膜轉(zhuǎn)移室內(nèi)設(shè)有光學(xué)載臺(tái)、位于所述光學(xué)載臺(tái)之上的石英壓塊和驅(qū)動(dòng)所述石英壓塊下壓的第一氣缸；所述進(jìn)樣反轉(zhuǎn)室包括能夠伸入所述薄膜轉(zhuǎn)移室的傳送桿、驅(qū)動(dòng)所述傳送桿的反轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)、位于所述傳送桿的內(nèi)側(cè)末端的受體吸附臺(tái)以及可往所述薄膜轉(zhuǎn)移室開啟的隔離閥，所述受體吸附臺(tái)用來將受體送上光學(xué)載臺(tái)；所述伸縮壓力裝置包括水平的伸縮桿以及設(shè)于所述伸縮桿的末端的壓力滾輪，所述壓力滾輪用來將薄膜在受體上抹平。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的InSb薄膜轉(zhuǎn)移裝置，其特征在于：所述進(jìn)樣反轉(zhuǎn)室上設(shè)有第一抽真空口。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的InSb薄膜轉(zhuǎn)移裝置，其特征在于：所述薄膜轉(zhuǎn)移室上設(shè)有第二抽真空口。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的InSb薄膜轉(zhuǎn)移裝置，其特征在于：所述薄膜轉(zhuǎn)移室內(nèi)設(shè)有用來調(diào)整所述光學(xué)載臺(tái)高度的第二氣缸。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的InSb薄膜轉(zhuǎn)移裝置，其特征在于：所述第一氣缸和第二氣缸上均設(shè)有壓力傳感器。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的InSb薄膜轉(zhuǎn)移裝置，其特征在于：所述石英壓塊通過連接關(guān)節(jié)設(shè)置于第一氣缸的主軸上。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的InSb薄膜轉(zhuǎn)移裝置，其特征在于：所述伸縮桿上設(shè)有用來調(diào)節(jié)所述壓力滾輪高度的第三氣缸。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的InSb薄膜轉(zhuǎn)移裝置，其特征在于：所述光學(xué)載臺(tái)內(nèi)設(shè)有S型回轉(zhuǎn)的加熱絲以及位于所述光學(xué)載臺(tái)中央的熱電偶。