[發(fā)明專利]一種用于玻璃HF腐蝕的多層金屬掩膜種子層及其制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810728203.0 | 申請(qǐng)日： | 2018-07-05 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN108569850A | 公開（公告）日： | 2018-09-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳樂;錢正芳;孫一翎;舒國(guó)響;陳肇聰 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 深圳大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | C03C17/36 | 分類號(hào)： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 溫州市品創(chuàng)專利商標(biāo)代理事務(wù)所(普通合伙) 33247 | 代理人： | 程春生 |
| 地址： | 518000 廣東*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 掩膜 多層金屬 種子層 腐蝕 玻璃 潔凈玻璃表面 玻璃腐蝕 磁控濺射 針孔現(xiàn)象 金屬膜 掩膜層 襯底 多層 濺射 三層 鉆蝕 制造 | ||
1.一種用于玻璃HF腐蝕的多層金屬掩膜種子層，其特征是所述金屬掩膜種子層為多層，自玻璃襯底向上依次形成Cr/Cu/Cr/Cu的復(fù)掩膜層結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種用于玻璃HF腐蝕的多層金屬掩膜種子層，其特征是所述金屬掩膜種子層為四層。
3.如權(quán)利要求2所述的一種用于玻璃HF腐蝕的多層金屬掩膜種子層，其特征是所述第一、三層的Cr層的厚度為10-100nm，第二、四層的Cu層的厚度為100-300nm。
4.如權(quán)利要求3所述的一種用于玻璃HF腐蝕的多層金屬掩膜種子層，其特征是所述第一、三層的Cr層的厚度為50nm，第二、四層的Cu層的厚度為200nm。
5.如權(quán)利要求1所述的一種用于玻璃HF腐蝕的多層金屬掩膜種子層，其特征是其制備方法是采用磁控濺射方法，在潔凈玻璃表面濺射多層金屬膜，形成Cr/Cu/Cr/Cu的復(fù)掩膜層結(jié)構(gòu)。
6.如權(quán)利要求1-5任意之一所述的一種用于玻璃HF腐蝕的多層金屬掩膜種子層的制備方法，其特征是包括如下步驟：
(a)在潔凈、干燥的玻璃襯底表面，通過磁控濺射方法，濺射Cr層；
(b)在步驟(a)的基礎(chǔ)了再濺射Cu層；
(c)在步驟(b)的基礎(chǔ)了再濺射Cr層；
(d)在步驟(c)的基礎(chǔ)了再濺射Cu層，形成Cr/Cu/Cr/Cu的多層金屬種子層結(jié)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求6所述的一種用于玻璃HF腐蝕的多層金屬掩膜種子層的制備方法，其特征是所述Cr/Cu/Cr/Cu的多層金屬掩膜種子層的各層厚度分別為50nm/200nm/50nm/200nm。
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