[發(fā)明專利]一種具有裝飾效果的復(fù)合功能陶瓷磚及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810713914.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-07-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108975874A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-12-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 柯善軍;田維;吳洋;馬超;倪成林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 佛山歐神諾陶瓷有限公司 |
| 主分類號(hào): | C04B33/132 | 分類號(hào): | C04B33/132;C04B33/135;C04B33/138;C04B38/00;C04B35/14;C04B35/622 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 王國(guó)標(biāo) |
| 地址: | 528000 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝飾效果 發(fā)泡陶瓷 陶瓷磚 致密層 復(fù)合功能陶瓷 隔熱保溫 中間層 制備 老化 陶瓷磚坯體 表面設(shè)置 表面裝飾 布料工藝 分層布料 復(fù)合功能 高溫?zé)Y(jié) 工藝過(guò)程 一次發(fā)泡 一次燒成 粘結(jié)方式 裝飾紋理 產(chǎn)業(yè)化 傳統(tǒng)的 低溫料 拋光磚 底面 燒成 生產(chǎn) | ||
1.一種具有裝飾效果的復(fù)合功能陶瓷磚,其特征在于:自下而上包括發(fā)泡陶瓷層、中間層和具有裝飾效果的致密層,所述具有裝飾效果的致密層是采用拋光磚布料工藝布施裝飾紋理的。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有裝飾效果的復(fù)合功能陶瓷磚,其特征在于:所述致密層的厚度為5~8mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有裝飾效果的復(fù)合功能陶瓷磚,其特征在于:所述中間層為低溫料連接層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有裝飾效果的復(fù)合功能陶瓷磚,其特征在于:所述中間層的化學(xué)成分按重量百分比計(jì)包括50~52%的SiO2、9~12%的Al2O3、0.09~0.11%的Fe2O3、0.05~0.07%的TiO2、15~17%的CaO、6~12%的MgO、4~8%的K2O、2~5%的Na2O和4~5%的燒失。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有裝飾效果的復(fù)合功能陶瓷磚,其特征在于:所述中間層的厚度為2~4mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有裝飾效果的復(fù)合功能陶瓷磚,其特征在于:所述發(fā)泡陶瓷層的原料組分按重量份計(jì)包括陶瓷拋光廢渣40~60份、建筑廢料10~20份、粉煤灰10~15份、粘土12~16份、廢玻璃粉8~15份、鋁廢渣10~12份。
7.一種如權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述的具有裝飾效果的復(fù)合功能陶瓷磚的制備方法,其特征在于包括如下工藝步驟:
1)按中間層的化學(xué)成分和發(fā)泡陶瓷磚層的原料組分分別按配料、球磨、噴墨造粒流程制備中間層粉料和發(fā)泡陶瓷層粉料,備用;
2)用普通拋光磚用陶瓷粉料制備得帶有裝飾圖案的生坯,備用;
3)取耐火匣缽,在匣缽底部鋪設(shè)一層工業(yè)氧化鋁粉,后鋪設(shè)廢紙,再將步驟2)所得生坯具有裝飾圖案的一面朝下放入匣缽中,得致密層,然后在生坯上均勻布施一層步驟1)所得的中間層粉料,得中間層,再將步驟1)所得的發(fā)泡陶瓷層粉料裝填進(jìn)匣缽中,得發(fā)泡陶瓷層;
4)將步驟3)裝填好的匣缽?fù)迫胨淼栏G中高溫?zé)桑鋮s后將匣缽中的陶瓷磚取出,切割,然后將致密層朝上進(jìn)行拋光處理,得到具有裝飾效果的復(fù)合功能陶瓷磚成品。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種具有裝飾效果的復(fù)合功能陶瓷磚的制備方法,其特征在于:步驟1)中所述中間層粉料和發(fā)泡陶瓷層粉料的含水率均控制在6~9%范圍內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種具有裝飾效果的復(fù)合功能陶瓷磚的制備方法,其特征在于:步驟3)所述工業(yè)鋁粉的中位徑為300~500μm。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種具有裝飾效果的復(fù)合功能陶瓷磚的制備方法,其特征在于:步驟4)中高溫?zé)傻臒勺罡邷囟葹?180~1250℃,最高溫度保溫時(shí)間為2~6h。
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