[發明專利]采用微波垂直注入激勵等離子體發生裝置

在審

• 申請號: 201810700898.1
• 申請日: 2018-06-29
• 公開（公告）號: CN108566717A
• 公開（公告）日: 2018-09-21
• 發明（設計）人: 陳根;陳俞錢;徐世文;楊慶喜;宋云濤;趙燕平;陳永華;黃熙
• 申請（專利權）人: 合肥中科離子醫學技術裝備有限公司
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46
• 代理公司: 北京和信華成知識產權代理事務所(普通合伙) 11390
• 代理人: 胡劍輝

1.采用微波垂直注入激勵等離子體發生裝置，其特征在于，包括線圈(1)、等離子體放電腔體(2)、連接法蘭(3)、微波窗(4)、氣體入口(5)、真空泵組接口(6)；

所述線圈(1)為中空結構設計；所述等離子體放電腔體(2)兩端為圓臺型設計；

所述等離子體放電腔體(2)的側壁上開設有一氣體入口(5)；氣體入口(5)通過連接法蘭(3)與微波窗(4)進行連接；

所述等離子體放電腔體(2)的側壁上還開設有兩個真空泵組接口(6)；

所述等離子體放電腔體(2)的側壁上設有六組線圈(1)。

2.根據權利要求1所述的采用微波垂直注入激勵等離子體發生裝置，其特征在于，所述氣體入口(5)開設在等離子體放電腔體(2)的中間位置，兩個真空泵組接口(6)在豎直方向上分別位于氣體入口(5)兩側。

3.根據權利要求1所述的采用微波垂直注入激勵等離子體發生裝置，其特征在于，六組所述線圈(1)均布在氣體入口(5)兩側的等離子體放電腔體上，具體為：等離子體放電腔體(2)兩端的圓臺型位置處布設兩組線圈(1)，真空泵組接口(6)與氣體入口(5)之間的等離子體放電腔體上布設一組線圈(1)。

4.根據權利要求1所述的采用微波垂直注入激勵等離子體發生裝置，其特征在于，所述線圈(1)采用銅材料構成，線圈(1)中空結構通入去離子水進行冷卻。

5.根據權利要求1所述的采用微波垂直注入激勵等離子體發生裝置，其特征在于，所述等離子體放電腔體(2)為一近圓柱體不銹鋼腔體，為等離子體產生的區域；等離子體放電腔體(2)由不銹鋼材料制成。

6.根據權利要求1所述的采用微波垂直注入激勵等離子體發生裝置，其特征在于，所述微波窗(4)由氧化鋁陶瓷材料制成。