[發明專利]一種銅片化學機械拋光液在審
| 申請號： | 201810670001.5 | 申請日： | 2018-06-21 |
| 公開（公告）號： | CN108997941A | 公開（公告）日： | 2018-12-14 |
| 發明（設計）人： | 金洙吉;萬策;康仁科;郭江;朱祥龍;吳頔 | 申請（專利權）人： | 大連理工大學 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 大連理工大學專利中心 21200 | 代理人： | 李曉亮;潘迅 |
| 地址： | 116024 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 銅片 拋光 拋光液 化學機械拋光液 工件表面 溶劑 面形 溶質 二氧化硅磨粒 氧化劑 表面粗糙度 表面活性劑 超精密加工 工件平面度 質量百分比 拋光效果 去離子水 腐蝕坑 絡合劑 劃痕 精密 | ||
1.一種銅片化學機械拋光液，其特征在于，所述的銅片化學機械拋光液包含溶質和溶劑兩部分；所述溶劑為去離子水，所述溶質各組分及其質量百分比含量為：絡合劑2～7wt％，氧化劑0.5～3wt％，表面活性劑0.2～0.6wt％，二氧化硅磨粒0.9～2.1wt％；銅片拋光液的pH值為7.5～9.5，由氫氧化鈉溶液調節。
2.根據權利要求1所述的一種銅片化學機械拋光液，其特征在于，所述的絡合劑選自乙二胺四乙酸(EDTA)、六偏磷酸鈉、乙二胺四甲叉膦酸鈉(EDTMPS)中至少一種。
3.根據權利要求1或2所述的一種銅片化學機械拋光液，其特征在于，所述的氧化劑選自雙氧水、次氯酸鈉、過硫酸銨中至少一種。
4.根據權利要求1或2所述的一種銅片化學機械拋光液，其特征在于，所述的表面活性劑選自曲拉通X-100、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚-10、吐溫-80中至少一種。
5.根據權利要求3所述的一種銅片化學機械拋光液，其特征在于，所述的表面活性劑選自曲拉通X-100、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚-10、吐溫-80中至少一種。
6.根據權利要求1或2或5所述的一種銅片化學機械拋光液，其特征在于，所述二氧化硅磨粒粒徑范圍為10～70nm。
7.根據權利要求3所述的一種銅片化學機械拋光液，其特征在于，所述二氧化硅磨粒粒徑范圍為10～70nm。
8.根據權利要求4所述的一種銅片化學機械拋光液，其特征在于，所述二氧化硅磨粒粒徑范圍為10～70nm。
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