[發明專利]一種具有雙真空室的真空滅弧室結構在審
| 申請號： | 201810645520.6 | 申請日： | 2018-06-21 |
| 公開（公告）號： | CN108565178A | 公開（公告）日： | 2018-09-21 |
| 發明（設計）人： | 張毅;冉園園;高春暉;甘巍 | 申請（專利權）人： | 中國振華電子集團宇光電工有限公司（國營第七七一廠） |
| 主分類號： | H01H33/664 | 分類號： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 北京聯創佳為專利事務所(普通合伙) 11362 | 代理人： | 韓煒 |
| 地址： | 550018 貴州省*** | 國省代碼： | 貴州;52 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空室 真空滅弧室 外真空室 雙真空室 動端 靜端 穿過 使用壽命 低真空 滅弧室 漏氣 開斷 概率 | ||
1.一種具有雙真空室的真空滅弧室結構，其特征在于：包括外真空室（1）和內真空室（2），內真空室（2）設在外真空室（1）中；還包括靜端件（3）和動端件（4），靜端件（3）由下至上依次穿過外真空室（1）和內真空室（2），動端件（4）由上至下依次穿過外真空室（1）和內真空室（2）。
2.根據權利要求1所述的一種具有雙真空室的真空滅弧室結構，其特征在于：所述內真空室（2）包括陶瓷絕緣外殼Ⅰ（5），陶瓷絕緣外殼Ⅰ（5）下端設有靜蓋板Ⅱ（6），陶瓷絕緣外殼Ⅰ（5）上端設有動蓋板Ⅰ（7），動蓋板Ⅰ（7）和靜蓋板Ⅱ（6）分別與陶瓷絕緣外殼Ⅰ（5）真空焊接。
3.根據權利要求1所述的一種具有雙真空室的真空滅弧室結構，其特征在于：所述外真空室（1）包括陶瓷絕緣外殼Ⅱ（8），陶瓷絕緣外殼Ⅱ（8）下端設有靜蓋板Ⅰ（9）、陶瓷絕緣外殼Ⅱ（8）上端設有動蓋板Ⅱ（10），靜蓋板Ⅰ（9）和動蓋板Ⅱ（10）分別與陶瓷絕緣外殼Ⅱ（8）真空焊接。
4.根據權利要求1所述的一種具有雙真空室的真空滅弧室結構，其特征在于：所述靜端件（3）設在外真空室（1）下端部，靜端件（3）依次通過靜蓋板Ⅰ（9）和靜蓋板Ⅱ（6）穿過外真空室（1）和內真空室（2），靜端件（3）分別與靜蓋板Ⅰ（9）和靜蓋板Ⅱ（6）真空焊接。
5.根據權利要求1所述的一種具有雙真空室的真空滅弧室結構，其特征在于：所述動端件（4）設在外真空室（1）上端部，動端件（4）中間部位通過波紋管Ⅰ（11）與動蓋板Ⅰ（7）真空焊接，動端件（4）頂部通過波紋管Ⅱ（12）與動蓋板Ⅱ（10）真空焊接。
6.根據權利要求1所述的一種具有雙真空室的真空滅弧室結構，其特征在于：所述外真空室（1）和內真空室（2）均為密封的真空內部空間。
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