[發(fā)明專利]測量系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810548581.0
• 申請日: 2018-05-31
• 公開（公告）號: CN110161074A
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蔡俊弘;陳宣伃
• 申請（專利權(quán)）人: 日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司
• 主分類號: G01N25/00
• 分類號: G01N25/00;G01B11/16;G05D27/02
• 代理公司: 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287
• 代理人: 蕭輔寬

一種測量系統(tǒng)包含變溫容器、光學(xué)裝置以及空調(diào)。所述變溫容器包含透明板。所述光學(xué)裝置包含第一光學(xué)傳感器單元和第二光學(xué)傳感器單元。所述空調(diào)安置在所述透明板與所述光學(xué)裝置之間。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開涉及一種測量系統(tǒng)，且涉及一種包含變溫容器、光學(xué)裝置以及空調(diào)的測量系統(tǒng)。

背景技術(shù)

半導(dǎo)體裝置封裝可經(jīng)受某些可靠性測試。舉例來說，可將半導(dǎo)體裝置封裝放置在變溫環(huán)境(例如烘箱)中以供后續(xù)觀測。光學(xué)裝置(例如數(shù)字圖像相關(guān)性(DIC)裝置)可用于獲得半導(dǎo)體裝置封裝在熱循環(huán)期間的圖像。變溫環(huán)境可配備有透明板或窗以便于獲取半導(dǎo)體裝置封裝的圖像。然而，光學(xué)裝置與窗之間的對流(例如熱對流)可能會對通過光學(xué)裝置獲得的圖像(例如圖像偏差、失真等)產(chǎn)生不利影響。

發(fā)明內(nèi)容

在一或多個實(shí)施例中，測量系統(tǒng)包含變溫容器、光學(xué)裝置以及空調(diào)。變溫容器包含透明板。光學(xué)裝置包含第一光學(xué)傳感器單元和第二光學(xué)傳感器單元?？照{(diào)安置在透明板與光學(xué)裝置之間。

在一或多個實(shí)施例中，變溫容器包含透明板和鄰近于所述透明板的空調(diào)。

附圖說明

圖1為根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的測量系統(tǒng)的示意圖。

圖2為根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的空調(diào)的示意圖。

圖3為根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的變溫容器的側(cè)面剖視圖的示意圖。

圖4A為根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的通風(fēng)單元的側(cè)面剖視圖的示意圖。

圖4B為根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的通風(fēng)單元的側(cè)面剖視圖的示意圖。

圖5為根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的測量系統(tǒng)的描述。

圖6為根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的變溫容器的側(cè)面剖視圖的描述。

圖7A為根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的待測量對象的彎曲的曲線圖。

圖7B和圖7C為展示根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的待測量對象的彎曲的圖式。

貫穿圖式和詳細(xì)描述使用共同參考標(biāo)號指示相同或類似元件。本公開的實(shí)施例將易于從結(jié)合附圖進(jìn)行的以下詳細(xì)描述而顯而易見。

具體實(shí)施方式

除非另外規(guī)定，否則如“在…上方”、“在…下方”、“向上”、“左方”、“右方”、“向下”、“頂部”、“底部”、“豎直”、“水平”、“側(cè)面”、“高于”、“下部”、“上部”、“在…上面”、“在…下面”等空間描述是相對于圖式中所展示的定向而指示。應(yīng)理解，本文中所使用的空間描述是出于說明的目的，且本文中所描述的結(jié)構(gòu)的實(shí)際實(shí)施方案可在空間上以任何定向或方式布置，其限制條件為本公開的實(shí)施例的優(yōu)點(diǎn)是不因此布置而有偏差。

圖1為根據(jù)本公開的一些實(shí)施例的測量系統(tǒng)1的示意圖。測量系統(tǒng)1包含變溫容器20、計算機(jī)100、光學(xué)裝置30以及空調(diào)40。