[發(fā)明專利]一種AMOLED顯示屏缺陷檢測方法、系統(tǒng)及存儲介質(zhì)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810540217.X | 申請日: | 2018-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN108986069A | 公開(公告)日: | 2018-12-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 肖君軍;孫玉鳳 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué)深圳研究生院 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00;G01N21/88 |
| 代理公司: | 深圳市添源知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44451 | 代理人: | 黎健任 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 子圖像灰度 檢測 差值步驟 初始輪廓 存儲介質(zhì) 大致位置 模型步驟 缺陷檢測 預(yù)處理 圖像 輪廓曲線 全局圖像 缺陷圖像 灰度 采集 敏感 | ||
1.一種AMOLED顯示屏缺陷檢測方法,其特征在于:包括如下步驟:
子圖像灰度級差值步驟:采集AMOLED顯示屏含缺陷圖像并進行預(yù)處理,找到缺陷的大致位置的輪廓曲線;
RSF模型步驟:將所述子圖像灰度級差值步驟得到的AMOLED顯示屏缺陷的大致位置的輪廓作為所述RSF模型步驟中所需要的初始輪廓曲線,然后再采用所述RSF模型方法對圖像的缺陷進行精準的檢測。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種AMOLED顯示屏缺陷檢測方法,其特征在于:所述子圖像灰度級差值步驟要把采集到的含有AMOLED顯示屏缺陷的圖像均勻地分成單個的子圖像,對于所述每個子圖像,按選定的步長和方法移動并計算其所包含的像素的灰度值總和,然后得到所述每個子圖像的所述像素灰度值總和的最大值與最小值的差值,根據(jù)這些差值確定灰度差值的閾值,再根據(jù)所述閾值判斷缺陷的位置,進而得到所述缺陷位置的大致輪廓。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種AMOLED顯示屏缺陷檢測方法,其特征在于:所述每個子圖像分別在寬度和高度方向以每個小部分為步長進行移動,每移動一次,計算所述子圖像內(nèi)所包含的像素灰度值總和。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種AMOLED顯示屏缺陷檢測方法,其特征在于:所述子圖像灰度級差值步驟包括:
第一步驟:劃分子圖像;
第二步驟:對每個子圖像進行平移計算并求出灰度差值Bij;
第三步驟:根據(jù)Bij計算均值和方差,并求閾值;
第四步驟:根據(jù)設(shè)定的閾值利用Bij圖判斷缺陷的大致位置,并求取這個大致位置的輪廓曲線。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種AMOLED顯示屏缺陷檢測方法,其特征在于:所述RSF模型步驟的初始輪廓曲線定義一個能量函數(shù),所述能量函數(shù)同時結(jié)合了圖像的局部和全局信息,然后利用水平集方法進行曲線拓撲演化,當曲線剛好演化到缺陷的邊緣位置時,所述能量函數(shù)得到最小值,所述RSF模型步驟根據(jù)RSF模型迭代演化水平集函數(shù),當水平集函數(shù)收斂使,停止迭代,就能夠精準定位檢測到缺陷。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種AMOLED顯示屏缺陷檢測方法,其特征在于:所述RSF模型步驟包括:
第1步驟:選定由子圖像灰度級差值方法得到的初始輪廓曲線,用Lipschitz函數(shù)φ的零水平集表示該輪廓曲線,并設(shè)置參數(shù)大小;
第2步驟:求解函數(shù)f1,f2,e1,e2;
第3步驟:根據(jù)RSF模型演化水平集函數(shù);
第4步驟:判斷水平集函數(shù)是否收斂,若收斂則迭代結(jié)束,否則重復(fù)第2至第4步驟。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種AMOLED顯示屏缺陷檢測方法,其特征在于:在所述第2步驟中,求輪廓曲線C內(nèi)部和外部的局部擬合值f1,f2,進而求e1,e2。
8.一種AMOLED顯示屏缺陷檢測系統(tǒng),其特征在于:包括:存儲器、處理器以及存儲在所述存儲器上的計算機程序,所述計算機程序配置為由所述處理器調(diào)用時實現(xiàn)權(quán)利要求1-7中任一項所述的方法的步驟。
9.一種計算機可讀存儲介質(zhì),其特征在于:所述計算機可讀存儲介質(zhì)存儲有計算機程序,所述計算機程序配置為由處理器調(diào)用時實現(xiàn)權(quán)利要求1-7中任一項所述的方法的步驟。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于哈爾濱工業(yè)大學(xué)深圳研究生院,未經(jīng)哈爾濱工業(yè)大學(xué)深圳研究生院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810540217.X/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





