[發明專利]一種皮膚屏障修復保濕面膜及其制備方法

有效

• 申請號: 201810457937.X
• 申請日: 2018-05-14
• 公開（公告）號: CN108379197B
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發明（設計）人: 楊森;張學軍;張博
• 申請（專利權）人: 楊森;張學軍;張博
• 主分類號: A61K8/9794
• 分類號: A61K8/9794;A61K8/9789;A61K8/92;A61K8/73;A61K8/67;A61K8/34;A61K8/44;A61K8/64;A61Q19/00
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 任曉云

本發明公開了一種皮膚屏障修復保濕面膜，所述皮膚屏障修復保濕面膜精選各種組分，并優化配比，所得到的皮膚屏障修復保濕面膜質感溫和，應用舒適，經試驗驗證，具有極佳的抗過敏、去敏修復保濕功效。通過不同溫度加入不同組分的過程制備，不僅保護了各組分的活性，可充分發揮功效，并且組分混合充分，所得的面膜質感細膩，易滲透吸收，迅速改善皮膚屏障破壞的狀態，而且易于敷貼及清洗。

技術領域

本發明涉及一種皮膚屏障修復保濕面膜及其制備方法。

背景技術

近年來，隨著生活水平的提高，人們對皮膚的健康和護理越來越重視，對化妝品的要求也越來越高，與此同時，據不完全統計，因為環境惡化及生活壓力增大等因素，敏感性皮膚人群占總人群的比例有逐年增高的趨勢。當敏感性皮膚接觸到各種刺激如不良反應的化妝品、化學制劑或污染的空氣等時，容易出現皮膚紅腫、發癢、脫皮等癥狀，嚴重的還會誘發過敏性皮炎。對于敏感性皮膚，其護理要特別產品的安全性和功效性，因此，研發一種修復皮膚屏障保濕功能的護膚品是本領域技科研人員及老百姓關注的熱點。

美容化妝品中，面膜屬于最早出現的一種，面膜可對皮膚短期封包，隔離外界的空氣與污染，易發揮功效，目前保濕、美白、抗皺、去痘等功效型的面膜較多，消費者因為長期使用不規范及超標添加劑的面膜導致皮膚屏障及粘膜的損傷，需要皮膚屏障修復聯合抗敏功效的面膜問世。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供抗過敏同時修復皮膚屏障保濕，針對敏感肌膚的不同狀態的護膚品。

為解決上述技術問題，本發明公開了一種皮膚屏障修復保濕面膜，其按重量百分比計包括以下組分：EG-1(聚甘油醚-26)0.3％～0.6％，甘油3％～5％，丁二醇1％～3％，EDTA-2Na0.02％～1％，去離子水80％～92％，HA(透明質酸)0.02％～0.08％，低HA(低分子透明質酸)0.01％～0.05％，漢生膠0.05％～0.4％，蘆薈濃縮液1％～6％，RPE(植物防腐劑牡丹根提取物)0.2％～0.5％，生育酚磷酸酯鈉0.01％～0.06％，NMF-50(氨基酸保濕劑)0.5％～2％，丁二醇1％～3％，苯氧乙醇0.1％～0.5％，己二醇0.2％～0.7％，SP115A(辛普高效增溶劑) 0.05％～0.25％，T-BFGF(堿性成纖維細胞生長因子)0.05％～0.3％，薰衣草精油0.0005％～0.003％。

優選包含按重量百分比計以下組分：EG-1(聚甘油醚-26)0.5％，甘油4％，丁二醇2％，EDTA-2Na0.05％，HA(透明質酸)0.04％，低HA(低分子透明質酸)0.02％，漢生膠0.2％，蘆薈濃縮液3％，RPE(植物防腐劑牡丹根提取物)0.2％～0.5％0.3％，生育酚磷酸酯鈉0.03％，NMF-50(氨基酸保濕劑)1％，丁二醇2％，苯氧乙醇0.25％，己二醇0.5％，SP115A(辛普高效增溶劑)0.15％，T-BFGF(堿性成纖維細胞生長因子)0.2％，薰衣草精油0.001％。

優選蘆薈濃縮液為重量比為1:1的庫拉索蘆薈和木立蘆薈去皮10倍濃縮液；優選薰衣草精油通過正丁烷亞臨界低溫萃取，其優選通過如下步驟制得：1)薰衣草干花朵預處理：篩選、除雜、粉碎置于萃取器內；2)正丁烷升溫增壓至所需壓力后進入萃取器內萃取；3)萃取后降壓進入分離器，低溫脫溶即得。其中制備步驟2)優選萃取溫度為35℃，萃取壓力為6M P a，萃取時間為2小時。

本發明所公開的皮膚屏障修復保濕面膜可通過如下步驟制備：1)HA、低HA及漢生膠混合分散得A1相；2)蘆薈濃縮液、PRE、生育酚磷酸酯鈉及NMF-50混合分散得B相；3) 丁二醇、苯氧乙醇及己二醇混合分散得C相；4)SP115A、T-BFGF及薰衣草精油混合分散得D相；5)EG-1、甘油、丁二醇、EDTA-2Na及去離子水混合攪拌得A相，升溫，保溫靜置，降溫，加入A1相，均質，繼續降溫，依次加入B相，C相，D相，攪拌均勻，高壓均質即得。

步驟5)優選A相混合攪拌升溫至90℃，保溫靜置20分鐘，降溫至65℃，加入A1相，均質，繼續降溫至45℃，依次加入B相，C相，D相。