[發明專利]一種可后續加工的綠色低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請號： | 201810457205.0 | 申請日： | 2018-05-14 |
| 公開（公告）號： | CN108407406B | 公開（公告）日： | 2023-07-25 |
| 發明（設計）人： | 黃成龍;鄧云軍;李建根;鄧軍;李勇 | 申請（專利權）人： | 四川南玻節能玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司 |
| 主分類號： | B32B9/00 | 分類號： | B32B9/00;B32B9/04;B32B15/04;B32B17/06;B32B33/00 |
| 代理公司： | 四川力久律師事務所 51221 | 代理人： | 陳明龍;韓洋 |
| 地址： | 610213 四川省成*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 后續 加工 綠色 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
1.一種可后續加工的綠色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，該玻璃膜層結構依次為：
玻璃基片、第一層打底層氮化硅層、第二層阻擋層鎳鉻合金層、第三層介質層氮化硅層、第四層粘附層氧化鋅層、第五層功能層銀層、第六層保護層鎳鉻合金層、第七層保護層氮化硅層；
所述第一層打底層氮化硅層厚度在10nm到15nm之間；
所述第二層阻擋層鎳鉻合金層厚度在7nm到10nm之間；
所述第三層介質層氮化硅層的厚度在5nm到10nm之間；
所述第四層粘附層氧化鋅層厚度在4nm到9nm之間；
所述第五層功能層銀層，厚度為8-12nm；
所述第六層保護層鎳鉻合金層，厚度為1-4nm；
所述第七層保護層氮化硅層，厚度為45-55nm。
2.根據權利要求1所述的一種可后續加工的綠色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述綠色低輻射鍍膜玻璃采用高真空磁控濺射技術制備。
3.根據權利要求1所述的一種可后續加工的綠色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基片為浮法白玻基片。
4.根據權利要求1所述的一種可后續加工的綠色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第二層阻擋層鎳鉻合金層厚度為8nm。
5.根據權利要求1所述的一種可后續加工的綠色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第三層介質層氮化硅層的厚度為9nm。
6.根據權利要求1所述的一種可后續加工的綠色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第四層粘附層氧化鋅層厚度為6nm。
7.根據權利要求1所述的一種可后續加工的綠色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第五層功能層銀層的厚度在9nm到10nm之間。
8.根據權利要求1所述的一種可后續加工的綠色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第六層保護層鎳鉻合金層的厚度在2nm到3nm之間。
9.根據權利要求1所述的一種可后續加工的綠色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第七層保護層氮化硅層的厚度在50nm到52nm之間。
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