[發明專利]計算機斷層圖像的散射校正方法以及裝置

有效

• 申請號: 201810456437.4
• 申請日: 2018-05-14
• 公開（公告）號: CN108542414B
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 齊宏亮;陳宇思;李翰威;吳書裕;駱毅斌
• 申請（專利權）人: 廣州華端科技有限公司
• 主分類號: A61B6/03
• 分類號: A61B6/03
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 周清華

1.一種計算機斷層圖像的散射校正方法，其特征在于，包括以下步驟：

獲取散射校正板以及目標物體的當前標準投影圖像、前一張標準投影圖像以及后一張標準投影圖像；其中，所述當前標準投影圖像、所述前一張標準投影圖像以及所述后一張標準投影圖像間的掃描角度間隔相等；所述散射校正板在所述當前標準投影圖像與所述前一張標準投影圖像以及所述后一張標準投影圖像中的投影位置不同，所述當前標準投影圖像中第一側包括散射校正板加目標物體投影數據，所述當前標準投影圖像中第二側包括目標物體投影數據，所述前一張標準投影圖像以及所述后一張標準投影圖像中第一側包括目標物體投影數據，所述前一張標準投影圖像以及所述后一張標準投影圖像中第二側包括散射校正板加目標物體投影數據；

分別根據所述散射校正板中的金屬球在各標準投影圖像中的第一中心位置，獲取各所述標準投影圖像中散射校正板加目標物體投影數據的第一散射數據；

分別根據各所述標準投影圖像中的第一散射數據估算各所述標準投影圖像中散射校正板加目標物體投影數據中其他位置坐標上的第二散射數據，根據各所述第一散射數據以及各所述第二散射數據獲取所述當前標準投影圖像中第一側的散射數據以及所述前一張標準投影圖像和所述后一張標準投影圖像中第二側的散射數據；

根據所述前一張標準投影圖像以及所述后一張標準投影圖像中第一側的目標物體投影數據估算所述當前標準投影圖像中第一側的目標物體投影數據；根據所述前一張標準投影圖像以及后一張標準投影圖像中第二側的散射數據估算所述當前標準投影圖像中第二側的散射數據；

將所述當前標準投影圖像中第一側的目標物體投影數據與第一側的散射數據相減獲得第一目標投影圖像，將所述當前標準投影圖像中第二側的目標物體投影數據與第二側的散射數據相減獲得第二目標投影圖像，根據所述第一目標投影圖像以及所述第二目標投影圖像獲取所述當前標準投影圖像散射校正后的目標投影圖像。

2.根據權利要求1所述的計算機斷層圖像的散射校正方法，其特征在于，所述獲取散射校正板以及目標物體的當前標準投影圖像的步驟之前，還包括以下步驟：

獲取所述散射校正板的當前散射校正板投影圖像、前一張散射校正板投影圖像以及后一張散射校正板投影圖像；其中，所述當前散射校正板投影圖像、所述前一張散射校正板投影圖像以及所述后一張散射校正板投影圖像分別與所述當前標準投影圖像、所述前一張標準投影圖像以及所述后一張標準投影圖像的掃描角度相同；所述當前散射校正板投影圖像中第一側包括金屬球投影圖像，所述前一張散射校正板投影圖像以及所述后一張散射校正板投影圖像中第二側包括金屬球投影圖像；

根據各所述散射校正板投影圖像中的金屬球投影圖像獲取所述金屬球在各所述散射校正板投影圖像中的第二中心位置；

所述分別根據所述散射校正板中的金屬球在各標準投影圖像中的第一中心位置，獲取各所述標準投影圖像中散射校正板加目標物體投影數據的第一散射數據的步驟之前，還包括以下步驟：

根據各所述第二中心位置確定所述金屬球在各標準投影圖像中的第一中心位置。

3.根據權利要求2所述的計算機斷層圖像的散射校正方法，其特征在于，所述根據各所述散射校正板投影圖像中的金屬球投影數據獲取所述金屬球在各所述散射校正板投影圖像中的第二中心位置的步驟，包括以下步驟：

從所述散射校正板投影圖像中分割出金屬球投影圖像；

檢測所述金屬球投影圖像的邊緣值，根據所述邊緣值獲取所述第二中心位置。

4.根據權利要求1所述的計算機斷層圖像的散射校正方法，其特征在于，所述分別根據各所述標準投影圖像中的第一散射數據估算各所述標準投影圖像中散射校正板加目標物體投影數據中其他位置坐標上的第二散射數據的步驟，包括以下步驟：

分別計算所述其他位置坐標到與所述其他位置坐標相鄰的第一中心位置的距離值；

根據各所述距離值計算各所述相鄰的第一中心位置對應的散射數據的權重因子；

根據各所述相鄰的第一中心位置對應的散射數據以及對應的權重因子計算所述其他位置坐標的第二散射數據。