[發明專利]一種射流清洗方法

有效

• 申請號: 201810449022.4
• 申請日: 2018-05-11
• 公開（公告）號: CN108637920B
• 公開（公告）日: 2019-09-06
• 發明（設計）人: 楊學武;李欣冀;劉生東;鄺浩欣;王鳳聚;楊建民;王菲;劉寧;高崇;孫文斌;高政坤;陳剛;王鎖柱;李帆;于春莉;王大偉;徐彬
• 申請（專利權）人: 北京航天長征飛行器研究所;中國運載火箭技術研究院
• 主分類號: B24C7/00
• 分類號: B24C7/00
• 代理公司: 中國航天科技專利中心 11009
• 代理人: 范曉毅

1.一種射流清洗方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1、給射流清洗裝置的罐體內裝入清洗砂和清洗液，封閉所述射流清洗裝置的出射管路，其中，所述射流清洗裝置包括所述罐體、加速射流組件及限位組件，所述罐體頂部設有安裝孔，所述加速射流組件包括進氣嘴和射流管路，所述進氣嘴為空心錐臺結構，設置在所述罐體底部，所述射流管路包括主體管路和所述出射管路，所述主體管路為直管，設置在所述罐體內，且下端與所述進氣嘴緊密配合，上端通過所述安裝孔探出所述罐體，所述出射管路與所述主體管路的上端連接，所述限位組件固定在所述罐體外部，用于限定所述主體管路的抬升高度；

步驟2、向所述主體管路內充入高壓氣體，當所述主體管路內的氣壓達到第一預設值時，所述主體管路沿所述安裝孔抬升，脫離所述進氣嘴，所述清洗砂、清洗液與充入的氣體在所述罐體內混合；

步驟3、當所述罐體內氣壓達到第二預設值時，開啟所述出射管路，所述清洗砂、清洗液與充入的氣體的混合物噴出，進行射流清洗。

2.根據權利要求1所述的射流清洗方法，其特征在于，步驟1中給射流清洗裝置的罐體內裝入的清洗砂和清洗液的體積比為1：1-2。

3.根據權利要求1所述的射流清洗方法，其特征在于，步驟2中所述的高壓氣體壓強為0.6-1MPa。

4.根據權利要求1所述的射流清洗方法，其特征在于，步驟1所述的出射管路為軟管，所述射流清洗裝置還包括管路封閉組件，所述管路封閉組件包括支撐部和壓緊裝置，所述出射管路位于所述支撐部上，步驟1中控制所述壓緊裝置擠壓所述出射管路，使所述出射管路封閉。

5.根據權利要求4所述的射流清洗方法，其特征在于，所述的射流清洗設備還包括振動器和兩位五通閥，所述振動器設置在所述罐體上，用于使所述罐體振動，所述壓緊裝置包括氣缸和與所述氣缸配套的活塞，所述活塞用于擠壓所述出射管路，所述兩位五通閥的進氣口用于與氣源連接，所述兩位五通閥的第一出氣口與所述氣缸連接，所述兩位五通閥的第二出氣口與所述振動器連接，步驟1中通過將所述兩位五通閥的閥芯設置在第一位置，使所述氣源給所述氣缸供氣，從而使所述活塞壓緊所述出射管路，步驟3中通過將所述閥芯切換到第二位置，使所述氣源給所述振動器供氣，使所述活塞松開，開啟所述出射管路。

6.根據權利要求1所述的射流清洗方法，其特征在于，所述射流清洗設備還包括手動抬升組件，所述手動抬升組件與所述主體管路上端連接，步驟2中，當供氣壓力正常，所述罐體內的壓力在預設時間內不發生變化時，手動抬升所述主體管路。

7.根據權利要求6所述的射流清洗方法，其特征在于，步驟3中還包括：

通過所述手動抬升組件調節所述主體管路的高度，以調節所述混合物的噴出流量。

8.根據權利要求1所述的射流清洗方法，其特征在于，所述主體管路上部設有至少一個通氣孔，步驟1中所述的給射流清洗裝置的罐體內裝入清洗砂和清洗液，包括：

給射流清洗裝置的罐體內裝入清洗砂和清洗液，確保液面低于所述通氣孔。

9.根據權利要求8所述的射流清洗方法，其特征在于，所述罐體上設有溢流管，所述溢流管的高度低于所述通氣孔的高度，步驟1中所述的給射流清洗裝置的罐體內裝入清洗砂和清洗液之后，還包括關閉所述溢流管。

10.根據權利要求8所述的射流清洗方法，其特征在于，所述罐體上設有出氣管，所述出氣管第一端位于所述罐體內，且高于所述通氣孔的位置，第二端位于所述罐體外，步驟1中所述的給射流清洗裝置的罐體內裝入清洗砂和清洗液之后，還包括關閉所述出氣管，步驟3中所述的進行射流清洗之后，還包括：先關閉氣源，然后打開所述出氣管。