[發(fā)明專利]一種新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810444930.4
• 申請(qǐng)日: 2018-05-10
• 公開（公告）號(hào): CN108545947B
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 田秀娟;周軍;王祥乾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佛山市三水區(qū)康立泰無(wú)機(jī)合成材料有限公司
• 主分類號(hào): C03C8/20
• 分類號(hào): C03C8/20;C03C1/04
• 代理公司: 東莞市華南專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44215
• 代理人: 王雪镅

本發(fā)明涉及陶瓷釉用乳濁劑技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑及其制備方法，該新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑包由以下重量百分比的組份：煅燒氧化鋅5％～30％、納米釔穩(wěn)定氧化鋯30％～60％、煅燒氧化鋁5％～20％和氮化硅5％～20％。該新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑既能提高釉面白度，又能降低釉面輻射，進(jìn)而避免危害人類健康。該新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑的制備方法，具有方法簡(jiǎn)單，生產(chǎn)成本低，并能夠適用于工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)的特點(diǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及陶瓷釉用乳濁劑技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑及其制備方法。

背景技術(shù)

陶瓷行業(yè)中常用的乳濁釉的原理是釉在燒成過(guò)程中形成大量的、顆粒細(xì)小的、均勻分布的微小晶體，晶體與玻璃不同的折射率產(chǎn)生乳濁效果。現(xiàn)有技術(shù)中，通常采用釉中加入一定量的硅酸鋯、氧化錫、氧化鈰等做乳濁劑，使之在燒成過(guò)程中析出微小晶體而失透乳白。也即，目前常用的乳濁劑為硅酸鋯、二氧化鈦、氧化錫、氧化鈰、氧化銻等，例如可參見中國(guó)專利申請(qǐng)《電瓷用乳白釉配方》、《一種用于低溫?zé)烧{(diào)濕陶瓷磚的增白釉料及其制備方法》等。其中采用最多的是硅酸鋯作為乳濁劑，但該乳濁劑存在高溫粘度高、資源稀缺、釉面容易輻射超標(biāo)進(jìn)而會(huì)危害人類健康等問(wèn)題；其最致命的缺點(diǎn)是如白度達(dá)到很高，釉面輻射往往會(huì)超標(biāo)，不利于健康。另外，氧化錫價(jià)格昂貴，一般不采用。氧化鈦?zhàn)鳛槿闈釀悦嬉孜龀鼋鸺t石晶體，使釉面變色。氧化銻在釉中容易產(chǎn)生氣泡影響釉面質(zhì)量。氧化鈰也會(huì)使釉面發(fā)黃，影響白度。因此，亟需研制一種新型環(huán)保的乳濁劑。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的之一在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑，該新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑既能提高釉面白度，又能降低釉面輻射，進(jìn)而避免危害人類健康。

本發(fā)明的目的之二在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑的制備方法。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的之一，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

提供一種新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑，包括以下重量百分比的組份：

優(yōu)選的，所述的一種新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑，包括以下重量百分比的組份：

更為優(yōu)選的，所述的一種新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑，包括以下重量百分比的組份：

所述納米釔穩(wěn)定氧化鋯的粒徑為50nm～300nm。

所述氮化硅的粒徑為d₅₀為1μm。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的之二，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

提供一種新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑的制備方法，它包括以下步驟：

步驟一、研磨一：將配方量的煅燒氧化鋅和煅燒氧化鋁、以及水和分散劑三聚磷酸鈉投入到研磨機(jī)中進(jìn)行研磨，得到第一漿料；

步驟二、研磨二：往步驟一的研磨機(jī)中加入配方量的氮化硅，繼續(xù)研磨，得到第二漿料；

步驟三、研磨三：往步驟二的研磨機(jī)加入配方量的納米釔穩(wěn)定氧化鋯，繼續(xù)研磨分散，得到超細(xì)乳濁劑漿料；

步驟四、烘干和過(guò)篩：將步驟三得到的超細(xì)乳濁劑漿料烘干后，進(jìn)行過(guò)篩，即制得所述新型環(huán)保的陶瓷釉用乳濁劑。

上述技術(shù)方案中，所述步驟一中，所述水的用量為煅燒氧化鋅和煅燒氧化鋁的重量之和，所述分散劑三聚磷酸鈉的用量為煅燒氧化鋅和煅燒氧化鋁的重量之和的0.2％；

所述研磨機(jī)為臥式砂磨機(jī)。