[發明專利]一種光學真空鍍膜材料在審
| 申請號: | 201810440351.2 | 申請日: | 2018-05-10 |
| 公開(公告)號: | CN108588644A | 公開(公告)日: | 2018-09-28 |
| 發明(設計)人: | 陳學兵;王光輝 | 申請(專利權)人: | 蘇州普京真空技術有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/06 | 分類號: | C23C14/06 |
| 代理公司: | 蘇州廣正知識產權代理有限公司 32234 | 代理人: | 孫茂義 |
| 地址: | 215000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空鍍膜 三氧化二鋁 二氧化硅 二氧化鈦 二氧化鉿 二氧化鋯 混合物 閃鋅礦 纖鋅礦 污點 膜層 起皮 色斑 剝落 | ||
本發明公開了一種光學真空鍍膜材料,包括:二氧化鈦30?40份、純度為95%以上的二氧化硅20?35份、三氧化二鋁10?15份、閃鋅礦和纖鋅礦的混合物8?12份、二氧化鋯2?6份、二氧化鉿3?5份、五氧化三鈦5.5?10份。通過上述方式,本發明一種光學真空鍍膜材料,不易起皮和剝落,形成的膜層沒有色斑和污點,耐久性好。
技術領域
本發明涉及高分子材料技術領域,特別是涉及一種光學真空鍍膜材料。
背景技術
隨著薄膜在光學、激光器等方面的應用日益擴大,對薄膜的光學和機械性能要求越來越高,研制新的鍍膜制備工藝和新型鍍膜材料已成為當今薄膜的重要趨勢,利用薄膜摻雜技術可以改薄膜的光學、機械性能從而得到新型的鍍膜材料。
發明內容
本發明主要解決的技術問題是提供一種光學真空鍍膜材料,不易起皮和剝落,形成的膜層沒有色斑和污點,耐久性好,機械性能好,強度高。
為解決上述技術問題,一種光學真空鍍膜材料,包括:二氧化鈦、純度為95%以上的二氧化硅、三氧化二鋁、閃鋅礦和纖鋅礦的混合物、二氧化鋯、二氧化鉿、五氧化三鈦,各組分的質量分數為:二氧化鈦30-40份、純度為95%以上的二氧化硅20-35份、三氧化二鋁10-15份、閃鋅礦和纖鋅礦的混合物8-12份、二氧化鋯2-6份、二氧化鉿3-5份、五氧化三鈦5.5-10份。
在本發明一個較佳實例中,所述閃鋅礦和纖鋅礦的混合物主要成分為硫化鋅。
在本發明一個較佳實例中,所述光學真空鍍膜材料各組分的質量份數為:二氧化鈦30份、純度為95%以上的二氧化硅20份、三氧化二鋁10份、閃鋅礦和纖鋅礦的混合物8份、二氧化鋯2份、二氧化鉿3份、五氧化三鈦5.5份。
在本發明一個較佳實例中,所述光學真空鍍膜材料各組分的質量份數為:二氧化鈦35份、純度為95%以上的二氧化硅22份、三氧化二鋁12份、閃鋅礦和纖鋅礦的混合物10份、二氧化鋯3份、二氧化鉿4份、五氧化三鈦6份。
在本發明一個較佳實例中,所述光學真空鍍膜材料各組分的質量份數為:二氧化鈦33份、純度為95%以上的二氧化硅24份、三氧化二鋁13份、閃鋅礦和纖鋅礦的混合物10份、二氧化鋯4份、二氧化鉿4.5份、五氧化三鈦8份。
在本發明一個較佳實例中,所述光學真空鍍膜材料各組分的質量份數為:二氧化鈦40份、純度為95%以上的二氧化硅35份、三氧化二鋁15份、閃鋅礦和纖鋅礦的混合物12份、二氧化鋯6份、二氧化鉿5份、五氧化三鈦10份。
本發明的有益效果是:本發明一種光學真空鍍膜材料,不易起皮和剝落,形成的膜層沒有色斑和污點,耐久性好,機械性能好,強度高。
具體實施方式
下面將對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅是本發明的一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例,都屬于本發明保護的范圍。
一種光學真空鍍膜材料,包括:二氧化鈦、純度為95%以上的二氧化硅、三氧化二鋁、閃鋅礦和纖鋅礦的混合物、二氧化鋯、二氧化鉿、五氧化三鈦,各組分的質量分數為:二氧化鈦30-40份、純度為95%以上的二氧化硅20-35份、三氧化二鋁10-15份、閃鋅礦和纖鋅礦的混合物8-12份、二氧化鋯2-6份、二氧化鉿3-5份、五氧化三鈦5.5-10份。
進一步的,所述閃鋅礦和纖鋅礦的混合物主要成分為硫化鋅。
進一步的,所述光學真空鍍膜材料各組分的質量份數為:二氧化鈦30份、純度為95%以上的二氧化硅20份、三氧化二鋁10份、閃鋅礦和纖鋅礦的混合物8份、二氧化鋯2份、二氧化鉿3份、五氧化三鈦5.5份。
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