[發(fā)明專利]一種發(fā)聲裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810402027.1 | 申請日: | 2018-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN108540908A | 公開(公告)日: | 2018-09-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭翔;馬江羽 | 申請(專利權(quán))人: | 歌爾股份有限公司 |
| 主分類號: | H04R9/02 | 分類號: | H04R9/02;H04R9/06 |
| 代理公司: | 北京博雅睿泉專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11442 | 代理人: | 王昭智;馬佑平 |
| 地址: | 261031 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 長邊 磁部 音圈 發(fā)聲裝置 支撐部件 直邊 磁路系統(tǒng) 振動組件 振膜 環(huán)繞 矩形結(jié)構(gòu) 內(nèi)端 | ||
1.一種發(fā)聲裝置,所述發(fā)聲裝置呈矩形結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:
磁路系統(tǒng),所述磁路系統(tǒng)包括中心磁部和邊磁部,所述中心磁部具有相對的兩個第一長邊和相對的兩個第二長邊,所述第一長邊與所述第二長邊的相互靠近的端部具有第一短直邊,所述邊磁部環(huán)繞在所述中心磁部周圍;
振動組件,所述振動組件包括音圈、振膜和支撐部件;
所述音圈環(huán)繞于所述中心磁部周圍,所述音圈包括相對的兩個第三長邊和相對的兩個第四長邊,所述第三長邊與所述第四長邊的相互靠近的端部具有與所述第一短直邊相對應(yīng)的第二短直邊;
所述振膜連接在所述音圈的一側(cè)端面上,所述支撐部件連接在所述音圈的另一側(cè),所述支撐部件的內(nèi)端連接在所述第二短直邊上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述支撐部件的內(nèi)端固定在所述第二短直邊的端面上;
或者,所述支撐部件的內(nèi)端固定在所述第二短直邊的側(cè)壁上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述支撐部件還包括用于固定的外端,以及連接于所述內(nèi)端和所述外端之間的彈性部。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述彈性部為片狀的弧形凸起結(jié)構(gòu),所述弧形凸起結(jié)構(gòu)的凸起方向朝向所述振膜或者遠(yuǎn)離所述振膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述彈性部為片狀的波浪形結(jié)構(gòu);
或者,所述彈性部為呈S形彎折延伸的條形結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,發(fā)聲裝置中設(shè)置有四個所述支撐部件,四個所述支撐部件分別與四個第二短直邊一一對應(yīng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,相鄰的所述支撐部件的內(nèi)端相互連接,四個所述支撐部件構(gòu)成環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述邊磁部包括四塊邊磁鐵,相鄰的兩塊所述邊磁鐵的端部之間具有缺口部,所述支撐部件容置于所述缺口部中,所述邊磁鐵的對應(yīng)于所述缺口部的端部設(shè)有切邊。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述缺口部兩側(cè)的切邊相互平行。
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述支撐部件的外端固定在磁路系統(tǒng)上;
或者,所述發(fā)聲裝置還包括外殼,所述磁路系統(tǒng)和振動組件收容固定在所述外殼內(nèi),所述支撐部件的外端固定在所述外殼上。
11.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述支撐部件的上設(shè)有電路層;
或者,所述支撐部件為導(dǎo)電材料制成;
所述支撐部件的內(nèi)端與所述音圈電連接,所述支撐部件的外端與外部電路連接。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述中心磁部在所述第一短直邊處與所述音圈的間隔距離為0.2-0.25mm。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲裝置,其特征在于,所述磁路系統(tǒng)包括下導(dǎo)磁板,所述中心磁部和邊磁部位于所述下導(dǎo)磁板上方,所述下導(dǎo)磁板上形成有凹陷部,所述支撐部件位于所述凹陷部上方。
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