[發明專利]帶上下盤冷卻式高精密雙面研磨機

在審

• 申請號: 201810400331.2
• 申請日: 2018-04-28
• 公開（公告）號: CN108637889A
• 公開（公告）日: 2018-10-12
• 發明（設計）人: 戴瑜興;楊佳葳;龔濤;謝俊
• 申請（專利權）人: 湖南宇晶機器股份有限公司
• 主分類號: B24B37/08
• 分類號: B24B37/08;B24B37/34;B24B55/02;B24B57/00;B24B47/12
• 代理公司: 長沙明新專利代理事務所(普通合伙) 43222
• 代理人: 徐新

1.帶上下盤冷卻式高精密雙面研磨機，其特征在于，包括箱體部件、主傳動系統、上料系統、電控箱、上盤傳動系統、上盤偏擺系統和砂液系統；所述砂液系統和上料系統分別位于箱體部件的左右兩側；所述主傳動系統、上盤傳動系統、上盤偏擺系統以及電控箱安裝在箱體部件上。

2.根據權利要求1所述的帶上下盤冷卻式高精密雙面研磨機，其特征在于，還設有按鈕箱，所述按鈕箱安裝于電控箱上。

3.根據權利要求1或2所述的帶上下盤冷卻式高精密雙面研磨機，其特征在于，所述砂液系統具備有砂液循環功能，可以實現工作過程中砂液的循環使用。

4.根據權利要求3所述的帶上下盤冷卻式高精密雙面研磨機，其特征在于，具備有砂液的過濾功能，可以對回流后的砂液進行過濾并對雜質進行回收。

5.根據權利要求1或2所述的帶上下盤冷卻式高精密雙面研磨機，其特征在于，所述砂液系統上安裝有一臺冷卻機，可以不間斷的向上盤傳動系統的上盤和主傳動系統的下盤提供冷卻水。

6.根據權利要求3所述的帶上下盤冷卻式高精密雙面研磨機，其特征在于，所述砂液系統上安裝有一臺冷卻機，可以不間斷的向上盤傳動系統的上盤和主傳動系統的下盤提供冷卻水。

7.根據權利要求4所述的帶上下盤冷卻式高精密雙面研磨機，其特征在于，所述砂液系統上安裝有一臺冷卻機，可以不間斷的向上盤傳動系統的上盤和主傳動系統的下盤提供冷卻水。

8.根據權利要求1或2所述的帶上下盤冷卻式高精密雙面研磨機，其特征在于，所述上料系統具備有工作臺精準調平功能，能夠實現被研磨工件整盤的上下料。

9.根據權利要求4所述的帶上下盤冷卻式高精密雙面研磨機，其特征在于，所述上料系統具備有工作臺精準調平功能，能夠實現被研磨工件整盤的上下料。

10.根據權利要求7所述的帶上下盤冷卻式高精密雙面研磨機，其特征在于，所述上料系統具備有工作臺精準調平功能，能夠實現被研磨工件整盤的上下料。