[發明專利]化學機械拋光裝置

有效

• 申請號: 201810394966.6
• 申請日: 2018-04-27
• 公開（公告）號: CN109397071B
• 公開（公告）日: 2021-04-27
• 發明（設計）人: 黃君席;柯皇竹
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: B24B37/34
• 分類號: B24B37/34;B24B37/30;B24B37/10;B24B57/02;B24B49/00;B24B1/00
• 代理公司: 北京德恒律治知識產權代理有限公司 11409
• 代理人: 章社杲;李偉

1.一種實施拋光工藝的裝置，包括：

可旋轉的拋光墊；

溫度傳感器，配置為監測所述可旋轉的拋光墊的頂面上的溫度；

第一分配器，配置為將保持在第一溫度的第一漿料分配在所述可旋轉的拋光墊上；

第二分配器，配置為將保持在第二溫度的第二漿料分配在所述可旋轉的拋光墊上；以及

控制器，連接至所述溫度傳感器以及所述第一分配器和所述第二分配器，并且配置為基于所述可旋轉的拋光墊的所述頂面上的溫度，控制從所述第一分配器和所述第二分配器分配的所述第一漿料和所述第二漿料的相應的體積，

其中，所述第二溫度不同于所述第一溫度，以將所述可旋轉的拋光墊的所述頂面上的所述溫度保持在恒定的值。

2.根據權利要求1所述的裝置，還包括：

載體，配置為在所述第一漿料和所述第二漿料的混合物的存在下，保持要拋光的樣品抵靠所述可旋轉的拋光墊的所述頂面。

3.根據權利要求2所述的裝置，其中，所述第一漿料和所述第二漿料的混合物處于所述第一溫度和所述第二溫度之間的溫度處。

4.根據權利要求2所述的裝置，其中，所述樣品是硅晶圓。

5.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述第一漿料和所述第二漿料具有相同的磨料流。

6.根據權利要求1所述的裝置，還包括：

第一容器，連接至所述第一分配器，并且配置為包含保持在所述第一溫度的所述第一漿料；以及

第二容器，連接至所述第二分配器，并且配置為包含保持在所述第二溫度的所述第二漿料。

7.根據權利要求2所述的裝置，其中，所述可旋轉的拋光墊被配置為繞著第一旋轉軸旋轉，所述載體被配置為繞著第二旋轉軸旋轉，所述第一旋轉軸平行于所述第二旋轉軸。

8.根據權利要求1所述的裝置，其中，當所述第一漿料的所述第一溫度高于所述第二漿料的所述第二溫度時，響應于所述可旋轉的拋光墊的所述頂面上的溫度低于所述恒定的值，所述控制器配置為增大所述第一漿料的流量并且減小所述第二漿料的流量。

9.根據權利要求1所述的裝置，其中，當所述第一漿料的所述第一溫度高于所述第二漿料的所述第二溫度時，響應于所述可旋轉的拋光墊的所述頂面上溫度高于所述恒定的值，所述控制器配置為減小所述第一漿料的流量并且增大所述第二漿料的流量。

10.一種實施拋光工藝的方法，包括：

使用第一流量將第一溫度的第一漿料分配在旋轉的拋光墊上；

使用第二流量將第二溫度的第二漿料分配在所述旋轉的拋光墊上，其中，所述第二溫度不同于所述第一溫度；

監測所述旋轉的拋光墊的頂面上的溫度；

當所述溫度偏移預定的恒定閾值時，同時增大所述第一流量和所述第二流量中的一個并且減小所述第一流量和所述第二流量中的另一個，直到所述溫度轉變回到所述預定的恒定閾值；以及

通過調整所述第一漿料的所述第一流量和所述第二漿料的所述第二流量的至少一個，在恒定的溫度處對樣品實施拋光工藝。

11.根據權利要求10所述的方法，其中，所述旋轉的拋光墊被配置為繞著第一旋轉軸旋轉。

12.根據權利要求11所述的方法，其中，所述樣品被配置為繞著第二旋轉軸旋轉，所述第一旋轉軸平行于所述第二旋轉軸。

13.根據權利要求10所述的方法，其中，所述樣品是硅晶圓。

14.根據權利要求10所述的方法，還包括：

從保持在所述第一溫度的第一容器分配所述第一漿料；以及

從保持在所述第二溫度的第二容器分配所述第二漿料。