[發(fā)明專利]一種用于柔性觸控系統(tǒng)的透明絕緣隔離點(diǎn)陣制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810390440.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108646942A | 公開(公告)日: | 2018-10-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊澤芳;程俊飛;季書林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京銀納新材料科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06F3/041 | 分類號(hào): | G06F3/041;C09D11/30 |
| 代理公司: | 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 吳旭 |
| 地址: | 210000 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 點(diǎn)陣 絕緣隔離 制備 觸控系統(tǒng) 襯底 透明 蝕刻 表面結(jié)構(gòu) 點(diǎn)陣結(jié)構(gòu) 噴墨打印 硅溶膠 觸控 噴涂 選材 隔離 曝光 應(yīng)用 | ||
1.一種用于柔性觸控系統(tǒng)的透明絕緣隔離點(diǎn)陣制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟1:選擇柔性觸控系統(tǒng)的透明導(dǎo)電層或選擇獨(dú)立的透明導(dǎo)電襯底作為所述透明絕緣隔離點(diǎn)陣的襯底;
步驟2:將待制備所述透明絕緣隔離點(diǎn)陣的襯底平鋪在噴墨打印機(jī)的工作板上;
步驟3:將就位的襯底進(jìn)行二維平面和一維高度定位;
步驟4:將硅溶膠進(jìn)行稀釋均勻后通過濾嘴注射到墨盒中,然后將墨盒與噴墨打印機(jī)噴嘴拼裝連接好,裝入噴墨打印機(jī)中;
步驟5:根據(jù)目標(biāo)透明絕緣隔離點(diǎn)陣的尺寸數(shù)據(jù),用設(shè)計(jì)軟件設(shè)計(jì)點(diǎn)陣圖形,所述透明絕緣隔離點(diǎn)陣尺寸數(shù)據(jù)包括透明絕緣隔離點(diǎn)陣總大小、單點(diǎn)大小、點(diǎn)間距;
步驟6:根據(jù)設(shè)計(jì)的點(diǎn)陣圖形控制噴墨打印機(jī)工作,并通過同一點(diǎn)陣圖形在同一位置重復(fù)打印次數(shù)來控制透明絕緣隔離點(diǎn)陣中單點(diǎn)的高度;
步驟7:每次打印完畢后自然干燥,多次重復(fù)打印完畢后完成制備。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于柔性觸控系統(tǒng)的透明絕緣隔離點(diǎn)陣制備方法,其特征在于,硅溶膠是由直徑在5~20nm的SiO2納米顆粒構(gòu)成的分散溶液,其pH酸堿性是酸性、中性、堿性中的任一種,SiO2質(zhì)量百分比為3%~40%,溶液的溶劑為水系溶劑、醇系溶劑或水系溶劑和醇系溶劑以任意比例的混合物,所述水系溶劑為去離子水的水系溶劑,所述醇系溶劑為有機(jī)醇溶劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于柔性觸控系統(tǒng)的透明絕緣隔離點(diǎn)陣制備方法,其特征在于,所述有機(jī)醇溶劑為乙醇、丙醇、乙二醇、丙三醇中的任一種或幾種混合。
4.一種用于柔性觸控系統(tǒng)的透明絕緣隔離點(diǎn)陣制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟1:選擇柔性觸控系統(tǒng)的透明導(dǎo)電層或選擇獨(dú)立的透明導(dǎo)電襯底作為所述透明絕緣隔離點(diǎn)陣的襯底;
步驟2:將待制所述透明絕緣隔離點(diǎn)陣的襯底平鋪在剛性面板上;
步驟3:制作帶有規(guī)則孔洞的掩版,孔洞大小是目標(biāo)透明絕緣隔離點(diǎn)陣的單點(diǎn)大小的80%~95%,孔洞間距與目標(biāo)透明絕緣隔離點(diǎn)陣的點(diǎn)間距相等,掩版尺寸大于目標(biāo)透明絕緣隔離點(diǎn)陣的總大?。蝗缓笤谘诎嫔现谱鞔龂娡繀^(qū)域的外框;
步驟4:將預(yù)制的掩版放置在就位的襯底正上方,并與襯底之間留有間距;
步驟5:將硅溶膠進(jìn)行稀釋均勻后通過濾嘴注射到噴涂儀的液杯里;
步驟6:噴涂儀的噴槍出口垂直面對(duì)掩版,調(diào)節(jié)噴涂氣壓并按單一方向逐行噴涂;
步驟7:每次噴涂完畢后自然干燥,通過重復(fù)噴涂次數(shù)來控制透明絕緣隔離點(diǎn)陣中單點(diǎn)的高度,多次重復(fù)噴涂完畢后完成制備。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于柔性觸控系統(tǒng)的透明絕緣隔離點(diǎn)陣制備方法,其特征在于,硅溶膠是由直徑在5~20nm的SiO2納米顆粒構(gòu)成的分散溶液,其pH酸堿性是酸性、中性、堿性中的任一種,SiO2質(zhì)量百分比為3%~40%,溶液的溶劑為水系溶劑、醇系溶劑或水系溶劑和醇系溶劑以任意比例的混合物,所述水系溶劑為去離子水的水系溶劑,所述醇系溶劑為有機(jī)醇溶劑。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于柔性觸控系統(tǒng)的透明絕緣隔離點(diǎn)陣制備方法,其特征在于,所述有機(jī)醇溶劑為乙醇、丙醇、乙二醇、丙三醇中的任一種或幾種混合。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于柔性觸控系統(tǒng)的透明絕緣隔離點(diǎn)陣制備方法,其特征在于,所述濾嘴的濾孔尺寸為100~500nm,所述掩版與襯底間距為1~5mm,噴涂時(shí)噴槍出口與掩版間距為5~10mm、噴涂氣壓為0.3~0.85MPa。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于柔性觸控系統(tǒng)的透明絕緣隔離點(diǎn)陣制備方法,其特征在于,所述掩版上用3M膠帶圍成所述待噴涂區(qū)域外框,膠帶內(nèi)側(cè)邊在襯底上的垂直投影距離導(dǎo)電邊界為0.5~2mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于柔性觸控系統(tǒng)的透明絕緣隔離點(diǎn)陣制備方法,其特征在于,所述掩版材質(zhì)為不銹鋼、銅、鋁、鋅、鈦、釩、鎳、鎢、鉬中的一種,厚度為0.01~0.05mm。
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G06F 電數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)處理
G06F3-00 用于將所要處理的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)變成為計(jì)算機(jī)能夠處理的形式的輸入裝置;用于將數(shù)據(jù)從處理機(jī)傳送到輸出設(shè)備的輸出裝置,例如,接口裝置
G06F3-01 .用于用戶和計(jì)算機(jī)之間交互的輸入裝置或輸入和輸出組合裝置
G06F3-05 .在規(guī)定的時(shí)間間隔上,利用模擬量取樣的數(shù)字輸入
G06F3-06 .來自記錄載體的數(shù)字輸入,或者到記錄載體上去的數(shù)字輸出
G06F3-09 .到打字機(jī)上去的數(shù)字輸出
G06F3-12 .到打印裝置上去的數(shù)字輸出





