[發(fā)明專(zhuān)利]顯示基板及其制備方法、顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810372175.3 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110164909B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王燦;張粲 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L27/32 | 分類(lèi)號(hào): | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 王莉莉 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
1.一種顯示基板,其特征在于,包括在襯底基板上由像素界定層隔開(kāi)的多個(gè)子像素,每個(gè)子像素包括:
發(fā)光層;
第一電極層,位于所述發(fā)光層面向所述襯底基板一側(cè),包括由間隙隔開(kāi)的多個(gè)電極,其中,所述間隙位于所述襯底基板與所述像素界定層之間且填充有氣體;和
第二電極層,位于所述發(fā)光層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述氣體是空氣或氮?dú)狻?/p>
3.一種顯示裝置,其特征在于,包括:根據(jù)權(quán)利要求1至2中任一項(xiàng)所述的顯示基板。
4.一種顯示基板的制備方法,其特征在于,包括:
在襯底基板上形成第一電極層,所述第一電極層包括由間隙隔開(kāi)的多個(gè)電極,并在犧牲基板上形成塑性材料層;
壓合所述襯底基板與所述犧牲基板,使所述塑性材料層與所述多個(gè)電極貼合;
移除所述犧牲基板;和
圖案化所述塑性材料層,使得所述多個(gè)電極被暴露且所述間隙位于所述塑性材料層與所述襯底基板之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,還包括:在圖案化后的塑性材料層上依次形成發(fā)光層和第二電極層。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述塑性材料是熱塑性材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法,其特征在于,利用熱壓來(lái)壓合所述襯底基板與所述犧牲基板。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,在空氣或氮?dú)夥諊袎汉纤鲆r底基板與所述犧牲基板。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,在犧牲基板上形成塑性材料層包括:
在所述犧牲基板上形成犧牲層;和
在所述犧牲層上形成所述塑性材料層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法,其特征在于,利用激光剝離移除所述犧牲層和所述犧牲基板。
11.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,利用納米壓印圖案化所述塑性材料層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專(zhuān)門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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