[發明專利]一種大理石晶面的拋光方法在審
| 申請號： | 201810351937.1 | 申請日： | 2018-04-18 |
| 公開（公告）號： | CN108581642A | 公開（公告）日： | 2018-09-28 |
| 發明（設計）人： | 閻軍;王佳超 | 申請（專利權）人： | 上海蘭升環境服務有限公司 |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 201600 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 大理石 拋光 混合液 結晶液 云石 大理石表面 堅固 研磨處理 研磨 稱取 晶面 去除 噴灑 表面硬度 靜置沉淀 拋光效果 重量組份 拋光劑 稱重 水份 硬漿 | ||
【權利要求書】：
1.一種大理石晶面的拋光方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟1：按重量組份比1∶0.5～2稱取大理石結晶液和云石堅固劑；
步驟2：將步驟1中稱取的大理石結晶液和云石堅固劑混合，然后靜置沉淀10～40min，得到混合液；
步驟3：將步驟2中的混合液噴灑于待處理大理石的表面，然后進行研磨處理；
步驟4：在研磨處理后去除大理石表面硬漿，去除大理石表面水份。
2.根據權利要求1所述大理石晶面的拋光方法，其特征在于，所述方法還包括在步驟4后進行一次研磨處理。
3.根據權利要求2所述大理石晶面的拋光方法，其特征在于，研磨過程中采用晶面處理機和百潔墊進行處理。
4.根據權利要求1所述大理石晶面的拋光方法，其特征在于，所述大理石結晶液為NCL2501大理石結晶液。
5.根據權利要求1所述大理石晶面的拋光方法，其特征在于，所述云石堅固劑為sutter云石堅固劑。
6.根據權利要求1所述大理石晶面的拋光方法，其特征在于，步驟3中所述混合液噴灑量為5～50g/m2。
7.根據權利要求1所述大理石晶面的拋光方法，其特征在于，步驟3中所述研磨處理為橫向往返研磨，且橫向往返研磨的時間為3～10min/m2。
8.根據權利要求1～7任意一種所述大理石晶面的拋光方法，其特征在于，所述待處理大理石為天然大理石或者人造大理石。
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