[發(fā)明專利]OLED顯示裝置及其制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810345480.3
• 申請日: 2018-04-17
• 公開（公告）號: CN108565351B
• 公開（公告）日: 2019-12-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃輝
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 44265 深圳市德力知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所
• 代理人: 林才桂;王中華

1.一種OLED顯示裝置的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟S1、提供一封裝蓋板(20)，對所述封裝蓋板(20)進(jìn)行圖案化，形成位于所述封裝蓋板(20)的第一表面上的陣列排布的多個凹槽(21)；

步驟S2、提供一保護(hù)膜(40)，將所述保護(hù)膜(20)貼附到所述封裝蓋板(20)第一表面上，所述保護(hù)膜(40)遮擋所述封裝蓋板(20)的第一表面上未形成凹槽(21)的區(qū)域，同時暴露出所述凹槽(21)；

步驟S3、將所述封裝蓋板(20)浸泡于散射層前驅(qū)體溶液中，并對所述散射層前驅(qū)體溶液進(jìn)行加熱，使得散射層前驅(qū)體溶液進(jìn)行自組裝，形成覆蓋所述凹槽(21)和保護(hù)膜(40)的散射薄膜(220)；

步驟S4、剝離所述保護(hù)膜(40)及位于所述保護(hù)膜(40)上的散射薄膜(220)，得到填充于所述凹槽(21)內(nèi)的散射層(22)；

步驟S5、提供一襯底基板(11)，在所述襯底基板(11)上形成陣列排布的多個OLED顯示單元(12)，得到OLED顯示基板(10)；

步驟S6、將所述封裝蓋板(20)與所述OLED顯示基板(10)組合，得到OLED顯示裝置，組合后，所述封裝蓋板(20)的第一表面位于所述封裝蓋板(20)遠(yuǎn)離所述OLED顯示基板(10)的一側(cè)，所述OLED顯示單元(12)位于所述OLED顯示基板(10)靠近所述封裝蓋板(20)的一側(cè)，每一個凹槽(21)均對應(yīng)與一個OLED顯示單元(12)相對設(shè)置。

2.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示裝置的制作方法，其特征在于，所述散射層(22)的材料為無機(jī)金屬氧化物，所述散射層前驅(qū)體溶液包括：前驅(qū)體介質(zhì)、輔助溶劑及分散劑。

3.如權(quán)利要求2所述的OLED顯示裝置的制作方法，其特征在于，所述散射層(22)的材料為二氧化鈦，所述前驅(qū)體介質(zhì)為四氯化鈦或鈦酸四丁酯，所述輔助溶劑為鹽酸和水，所述散射層前驅(qū)體溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為15％～40％。

4.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示裝置的制作方法，其特征在于，所述凹槽(21)的深度大于所述散射層(22)的厚度，所述凹槽(21)的深度小于或等于15μm，所述散射層(22)的厚度大于5μm且小于15μm。

5.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示裝置的制作方法，其特征在于，每一個OLED顯示單元(12)均包括至少一個OLED子像素。

6.一種采用如權(quán)利要求1所述的OLED顯示裝置的制作方法制得的OLED顯示裝置，其特征在于，包括：OLED顯示基板(10)以及與所述OLED顯示基板(10)相對設(shè)置的封裝蓋板(20)；

所述OLED顯示基板(10)包括：襯底基板(11)以及位于所述襯底基板(11)靠近所述封裝蓋板(20)的一側(cè)的陣列排布的多個OLED顯示單元(12)；

所述封裝蓋板(20)遠(yuǎn)離所述基板(10)的一側(cè)表面形成有陣列排布的多個凹槽(21)，每一個凹槽(21)內(nèi)均填充有散射層(22)，每一個凹槽(21)均對應(yīng)與一個OLED顯示單元(12)相對設(shè)置。

7.如權(quán)利要求6所述的OLED顯示裝置，其特征在于，所述散射層(22)的材料為無機(jī)金屬氧化物。

8.如權(quán)利要求7所述的OLED顯示裝置，其特征在于，所述散射層(22)的材料為二氧化鈦。

9.如權(quán)利要求6所述的OLED顯示裝置，其特征在于，所述凹槽(21)的深度大于所述散射層(22)的厚度，所述凹槽(21)的深度小于或等于15μm，所述散射層(22)的厚度大于5μm且小于15μm。

10.如權(quán)利要求6所述的OLED顯示裝置，其特征在于，每一個OLED顯示單元(12)均包括至少一個OLED子像素。