[發(fā)明專利]一種采用紅外線加熱退火優(yōu)化透明導(dǎo)電薄膜質(zhì)量的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810312783.5 | 申請日: | 2018-04-09 |
| 公開(公告)號: | CN108468019A | 公開(公告)日: | 2018-08-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉生忠;常遠(yuǎn)程;馮江山;朱小寧;朱學(xué)杰;吳強(qiáng);肖鋒偉;楊釗;李云虎;鄧增社 | 申請(專利權(quán))人: | 陜西煤業(yè)化工技術(shù)研究院有限責(zé)任公司;陜西師范大學(xué) |
| 主分類號: | C23C14/08 | 分類號: | C23C14/08;C23C14/58;C23C16/40;C23C16/56;C23C4/11;C23C4/18 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 徐文權(quán) |
| 地址: | 710077 陜西省西安市*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 透明導(dǎo)電薄膜 制備 退火 紅外線加熱 紅外線照射 襯底 優(yōu)化 紅外加熱裝置 熱處理 不均勻性 輻射加熱 紅外加熱 加熱退火 快速加熱 退火處理 真空條件 爐體 加熱 建造 維修 | ||
1.一種采用紅外線加熱退火優(yōu)化透明導(dǎo)電薄膜質(zhì)量的方法,其特征在于,首先在襯底上制備透明導(dǎo)電薄膜;再將制備的透明導(dǎo)電薄膜放置在紅外線照射下進(jìn)行加熱退火熱處理,得到優(yōu)化的透明導(dǎo)電薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采用紅外線加熱退火優(yōu)化透明導(dǎo)電薄膜質(zhì)量的方法,其特征在于,襯底為柔性襯底或者剛性襯底;所述柔性襯底包括可彎曲或者可纏繞的高分子薄膜;剛性襯底為玻璃、石英、藍(lán)寶石或者硅基底中的一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的采用紅外線加熱退火優(yōu)化透明導(dǎo)電薄膜質(zhì)量的方法,其特征在于,在柔性襯底上制備透明導(dǎo)電薄膜和退火處理時(shí),使用卷到卷技術(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采用紅外線加熱退火優(yōu)化透明導(dǎo)電薄膜質(zhì)量的方法,其特征在于,退火熱處理是在真空條件下,在氧氣、空氣、氮?dú)饣驓鍤鈿夥罩羞M(jìn)行。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采用紅外線加熱退火優(yōu)化透明導(dǎo)電薄膜質(zhì)量的方法,其特征在于,透明導(dǎo)電薄膜為摻雜的氧化銦、摻雜的氧化錫和摻雜的氧化鋅的一種或多種的混合物、合金或疊層薄膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采用紅外線加熱退火優(yōu)化透明導(dǎo)電薄膜質(zhì)量的方法,其特征在于,透明導(dǎo)電薄膜的厚度為0.1μm~2.5μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采用紅外線加熱退火優(yōu)化透明導(dǎo)電薄膜質(zhì)量的方法,其特征在于,紅外線波長為2.5μm~15μm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采用紅外線加熱退火優(yōu)化透明導(dǎo)電薄膜質(zhì)量的方法,其特征在于,襯底上制備透明導(dǎo)電氧化物薄膜是采用熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、真空濺射、化學(xué)氣相沉積或噴涂的方式制備。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采用紅外線加熱退火優(yōu)化透明導(dǎo)電薄膜質(zhì)量的方法,其特征在于,加熱溫度為200℃~230℃。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采用紅外線加熱退火優(yōu)化透明導(dǎo)電薄膜質(zhì)量的方法,其特征在于,所述紅外線加熱時(shí)的加熱功率為200W~300W。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





