[發明專利]一種PVD涂裝工藝在審
| 申請號: | 201810302128.1 | 申請日: | 2018-04-04 |
| 公開(公告)號: | CN108277470A | 公開(公告)日: | 2018-07-13 |
| 發明(設計)人: | 周順平 | 申請(專利權)人: | 東莞市三誠嘉五金塑膠制品有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/04;C23C14/58;C23C14/02;C23C14/14 |
| 代理公司: | 深圳華奇信諾專利代理事務所(特殊普通合伙) 44328 | 代理人: | 范亮 |
| 地址: | 523000 廣東省東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 工藝步驟 離子濺射 磁控 涂裝 遮蔽 油墨 清潔劑 工件表面噴涂 表面涂裝 繁雜工序 工件表面 鐳雕工藝 生產效率 傳統的 真空鍍 減去 鍍層 高光 面漆 擦拭 生產成本 清洗 改進 生產 | ||
本發明涉及表面涂裝技術領域,尤其是指一種PVD涂裝工藝,包括如下工藝步驟:步驟1:在工件表面真空鍍UV底漆;步驟2:完成鍍UV底漆后利用PVD磁控離子濺射鍍所需顏色;步驟3:在步驟2完成的鍍層上使用油墨遮蔽所需的位置;步驟4:完成步驟3后再次進行PVD磁控離子濺射鍍所需顏色;步驟5:完成步驟4后使用清潔劑把步驟3使用油墨遮蔽的地方清洗或擦拭干凈;步驟6:完成步驟5后在工件表面噴涂高光PU或UV保護面漆,通過改進工藝步驟代替傳統的3D鐳雕工藝,減去實際生產中的繁雜工序,提高生產效率,也降低了生產成本,實用性強。
技術領域
本發明涉及表面涂裝技術領域,尤其是指一種PVD涂裝工藝。
背景技術
隨著社會的不斷進步,科技的不斷發展,人們的生活也隨之品質不斷上升,在日常生活中,便攜式電子產品是人們出門的必需品之一,如平板電腦、手機等已逐漸成為了生活中的剛需品,這類電子產品的外殼為了提高其美觀度,均需要具有一定的玻璃的通透性、陶瓷的質感以及金屬效果,另一方面為了符合便攜和使用性能,其不能直接使用玻璃或陶瓷作為外殼,因此,其需要在非玻璃、陶瓷殼體上進行具備玻璃通透性、陶瓷質感的涂裝,在大部分工件表面都需鐳雕或印刷相應的商標、字樣或圖案,鐳雕或印刷需額外增加設備和工序,增加復雜性提高生產成本。
發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種利用涂裝油墨配合PVD磁控離子濺射鍍代替傳統的3D鐳雕工藝的PVD涂裝工藝。
為了解決上述技術問題,本發明采用如下技術方案:一種PVD涂裝工藝,其特征在于:包括如下工藝步驟:
步驟1:在工件表面真空鍍UV底漆;
步驟2:完成鍍UV底漆后利用PVD磁控離子濺射鍍所需顏色;
步驟3:在步驟2完成的鍍層上使用油墨遮蔽所需的位置;
步驟4:完成步驟3后再次進行PVD磁控離子濺射鍍所需顏色;
步驟5:完成步驟4后使用清潔劑把步驟3使用油墨遮蔽的地方清洗或擦拭干凈;
步驟6:完成步驟5后在工件表面噴涂高光PU或UV保護面漆。
優選的,所述步驟1中真空鍍的UV底漆的膜厚為0.8~1.7微米,然后需進行烘烤工藝,烘烤溫度為70~86℃,烘烤時間為2~3min。
優選的,所述步驟2和步驟4中的PVD磁控離子濺射鍍,需在磁控濺射設備中完成,該設備在工作前需進行腔體清理,清理時的設備參數如下,真空度為3×10-4~4×10-4Torr,靶材電流為4~5A,清理時間為100~200s。
優選的,所述步驟2和步驟4中的PVD磁控離子濺射鍍,使用單一金屬靶材,該金屬靶材為鈦靶、錫靶或鋁靶。
優選的,所述步驟2和步驟4中的PVD磁控離子濺射鍍,需在磁控濺射設備中完成,該設備工作時的參數如下,真空度為0.2×10-5~0.7×10-5Torr,偏壓值為60~110V,靶材的電流為3~7A。
優選的,所述步驟2和步驟4中的PVD磁控離子濺射鍍,使工件表面沉積一層鍍膜,沉積時間為1~2H,待沉積完成后需等磁控濺射設備腔體冷卻至46~60℃后打開腔體取出產品。
優選的,所述步驟3中的油墨為絲移印油墨,使用噴涂或印刷遮蔽需要標識的字體或圖案的位置。
優選的,所述步驟5中的清潔劑是油墨清潔劑或堿性浸泡用清潔劑。
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