[發明專利]可調節的物理不可克隆函數有效
| 申請號: | 201810297044.3 | 申請日: | 2018-04-04 |
| 公開(公告)號: | CN108696350B | 公開(公告)日: | 2023-07-25 |
| 發明(設計)人: | O.維勒斯 | 申請(專利權)人: | 羅伯特·博世有限公司 |
| 主分類號: | H04L9/08 | 分類號: | H04L9/08 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 胡莉莉;申屠偉進 |
| 地址: | 德國斯*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 調節 物理 不可 克隆 函數 | ||
1.一種由作為物理不可克隆函數的微機電系統(11a、12a)以及可控制的調節環節(11b、12b)構成的裝置(11、12),作為對挑戰的反應,所述微機電系統按照映射規則來輸出應答,所述調節環節被設立為:按照控制指令來調節影響所述映射規則的周圍環境參數,以改變所述映射規則,以便生成對于同一挑戰的不同的應答,使得不同的密碼密鑰被生成,或者以便破壞所述微機電系統。
2.根據權利要求1所述的裝置,所述裝置布置在外殼(11d、12d)中。
3.根據權利要求2所述的裝置,其中所述外殼(11d、12d)由陶瓷材料形成。
4.根據權利要求1至3之一所述的裝置,所述裝置具有測量環節(11c、12c),用于測量影響所述映射規則的周圍環境參數。
5.根據權利要求1至3之一所述的裝置,其中影響所述映射規則的周圍環境參數是周圍環境溫度和/或周圍環境壓強。
6.根據權利要求1至3之一所述的裝置,其中所述調節環節(11b、12b)具有加熱和/或冷卻元件。
7.一種組件(10),其具有多個根據上述權利要求之一所述的裝置(11、12)。
8.一種由控制單元(2)和至少一個根據權利要求1至6之一所述的裝置(11、12)構成的系統(1),所述控制單元被設立為生成針對調節環節(11b、12b)的控制指令。
9.根據權利要求8所述的系統(1),其中所述控制單元(2)被設立為調節周圍環境參數。
10.根據權利要求8或9所述的系統(1),其中所述控制單元(2)被設立為:給所述裝置(11、12)加載挑戰并且檢測所述裝置(11、12)的應答。
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