[發明專利]一種用白玻制備的綠色單銀LOW-E玻璃

無效

• 申請號: 201410606443.5
• 申請日: 2014-10-30
• 公開（公告）號: CN104339785A
• 公開（公告）日: 2015-02-11
• 發明（設計）人: 禹幸福;陳圓
• 申請（專利權）人: 中山市亨立達機械有限公司
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06;B32B33/00;C03C17/36;B32B9/04;B32B15/04
• 代理公司: 中山市捷凱專利商標代理事務所(特殊普通合伙) 44327
• 代理人: 石仁

技術領域：

本發明涉及一種用白玻制備的綠色單銀LOW-E玻璃。

背景技術：

LOW-E玻璃，是一種高端的低輻射玻璃，是在玻璃基材表面鍍制包括銀層在內的多層金屬及其它化合物組成的膜系產品。

隨著現代建筑的發展，人們審美觀念的提高，對幕墻玻璃的外觀色調與整體的建筑的協調性越來越受到人們的關注。而在眾多顏色中，綠色單銀LOW-E玻璃越來越受到建筑設計師的熱寵。傳統的綠色單銀LOW-E玻璃，均采用綠色原片作為基底，在上面鍍上相應的膜層，從而達到綠色外觀效果。但由于綠色的浮法玻璃原片采購困難且價格是普通白色浮法玻璃的1.2倍以上，成本高昂。

故有必要對現有的綠色單銀LOW-E玻璃作出改進，以提供一種成本較低的綠色單銀LOW-E玻璃。

發明內容：

本發明的目的在于提供一種用白玻制備的綠色單銀LOW-E玻璃，其結構簡單，成本較低。

一種用白玻制備的綠色單銀LOW-E玻璃，包括玻璃基材，所述玻璃基材為白色浮法玻璃，其上表面由下而上依次設有SnO₂底層介質層、AZO平整層、Cu層、Ag層、CrN_xO_y膜層、以及SnO₂頂層介質層；所述Cu層的厚度為10～15nm；所述Ag層的厚度為3～5nm。

本發明可通過如下方案進行改進：

所述SnO₂底層介質層的厚度為50nm。

所述AZO平整層的厚度為10nm。

所述CrN_xO_y膜層的厚度為3nm。

所述SnO₂頂層介質層的厚度為50nm。

本發明具有如下優點：1、本發明結構簡單，創造性地采用普通白色浮法玻璃作為玻璃基材，合理調整Cu層、Ag層的厚度，鍍上相應的膜層后，同樣可以產生綠色的外觀效果，且成本較低。2、具有比傳統單銀LOW-E玻璃更低的輻射率。

附圖說明：

圖1為本發明結構剖視圖。

具體實施方式：

如圖所示，一種用白玻制備的綠色單銀LOW-E玻璃，包括玻璃基材1，所述玻璃基材1為白色浮法玻璃，其上表面由下而上依次設有SnO₂底層介質層2、AZO平整層3、Cu層4、Ag層5、CrN_xO_y膜層6、以及SnO₂頂層介質層7；所述Cu層4的厚度為10～15nm；所述Ag層5的厚度為3～5nm。

進一步地，所述SnO₂底層介質層2的厚度為50nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用交流中頻電源、以氬氣為濺射氣體、氧氣作反應氣體濺射Sn靶，其中，氬氧比為(400SCCM～420SCCM)：(450SCCM～500SCCM)，最終在玻璃基材1上形成SnO₂底層介質層2，氬氧比是該膜層的核心，決定了成膜的質量。

再進一步地，所述AZO平整層3的厚度為10nm，用于平滑Cu層4。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn(AZO)靶，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量氧氣,其中，氬氧比為：(400SCCM～420SCCM):(20～40SCCM),最終形成AZO平整層，為Cu層4、Ag層5作鋪墊，降低輻射率。

更進一步地，所述Cu層4作為功能層，采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射銅靶，用氬氣作為濺射氣體，氣體流量500～550SCCM，最終形成Cu層4。由于Cu層4也具有低輻射效果，在功能層Ag層5前面用一層Cu層4打底，降低輻射率，同時由于Cu層4的使用，可以合理地降低Ag層5的厚度，從而達到將反射色生產綠色的效果。

又進一步地，所述Ag層5作為功能層，其采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射銀靶，用氬氣作為濺射氣體，氣體流量500～550SCCM，最終形成Ag層5。

再進一步地，所述CrN_xO_y膜層6的厚度為3nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射鉻靶，用氮氣做反應氣體，滲少量氧氣，最終形成CrN_xO_y膜層6，提高膜層耐磨性、提高透光率、提高鋼化時抗高溫氧化性。