[發明專利]導電性薄膜和觸摸面板在審
| 申請號： | 202010085809.4 | 申請日： | 2020-02-11 |
| 公開（公告）號： | CN111554431A | 公開（公告）日： | 2020-08-18 |
| 發明（設計）人： | 西島仁志;成田悠;鷹尾寬行 | 申請（專利權）人： | 日東電工株式會社 |
| 主分類號： | H01B5/14 | 分類號： | H01B5/14;G06F3/044;G06F3/045 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 導電性 薄膜 觸摸 面板 | ||
1.一種導電性薄膜，其特征在于，其在厚度方向的一個方向上依次具備透明基材、透明導電層、銅層和氧化覆膜層，
所述氧化覆膜層的厚度方向上的一面的水接觸角為70°以上。
2.根據權利要求1所述的導電性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜層的厚度方向上的一面中的氫氧化銅的比率為20面積％以下。
3.根據權利要求1所述的導電性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜層的厚度方向上的一面中的銅的比率為25面積％以下。
4.根據權利要求2所述的導電性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜層的厚度方向上的一面中的銅的比率為25面積％以下。
5.根據權利要求1所述的導電性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜層的厚度方向上的一面中的氧化銅(I)的比率為40面積％以上。
6.根據權利要求2所述的導電性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜層的厚度方向上的一面中的氧化銅(I)的比率為40面積％以上。
7.根據權利要求3所述的導電性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜層的厚度方向上的一面中的氧化銅(I)的比率為40面積％以上。
8.根據權利要求4所述的導電性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜層的厚度方向上的一面中的氧化銅(I)的比率為40面積％以上。
9.根據權利要求1～8中任一項所述的導電性薄膜，其特征在于，所述氧化覆膜層的厚度為5nm以上。
10.一種觸摸面板，其特征在于，其具備權利要求1～9中任一項所述的導電性薄膜。
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