[發明專利]掩模板框架及其制作方法、蒸鍍掩模板組件及蒸鍍設備

有效

• 申請號: 201810266417.0
• 申請日: 2018-03-28
• 公開（公告）號: CN108468018B
• 公開（公告）日: 2019-10-15
• 發明（設計）人: 戚海平;黃俊杰;王震
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;劉偉

本發明提供一種掩模板框架及其制作方法、蒸鍍掩模板組件及蒸鍍設備，所述掩模板框架包括框架主體，所述框架主體包括多個邊框，且框架主體包括相背設置的第一表面和第二表面，每一邊框的第一表面上、沿該邊框的延伸方向間隔設置有多個溝槽，所述溝槽由所述第一表面向所述第二表面所在方向凹陷形成，并在垂直于所述第一表面的方向上具有開槽深度；其中每一所述邊框上的多個溝槽中，位于該邊框的中部位置處的所述溝槽的所述開槽深度小于位于該邊框的兩端位置處的所述溝槽的所述開槽深度。本發明的掩模板框架及其制作方法、蒸鍍掩模板組件及蒸鍍設備，能夠改善由于掩模板框架變形而導致的掩模板不平坦現象，改善混色、均一性差等不良，提升產品良率。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其是涉及一種掩模板框架及其制作方法、蒸鍍掩模板組件及蒸鍍設備。

背景技術

OLED(Organic Light Emission Display，有機電致發光二極管)顯示技術憑借其各方面優點，而逐漸取代LCD(Liquid Crystal Display，液晶顯示器)顯示，OLED顯示技術的發展迎來了黃金時代，各大OLED顯示器制造商不斷推出各種顛覆性的產品來吸引人們的眼球。

在OLED(Organic Light Emission Display，有機電致發光二極管)制造技術中，真空蒸鍍用的掩模板是至關重要的部件，掩模板的質量直接影響著生產制造成本和產品質量。OLED蒸鍍過程用的掩模板主要包括精細金屬掩模板(Fine Metal Mask，簡稱：FMM)，精細金屬掩模板FMM用于蒸鍍發光層材料，在蒸鍍基板上形成像素圖形；在精細金屬掩模板的下方設置輔助支撐掩模板，輔助支撐掩模板主要包括縱橫交錯設置的支撐條(HowlingSheet)和遮擋條(Cover Sheet)，用于支撐精細金屬掩模板FMM以及限定蒸鍍基板上的顯示區域的形狀，精細金屬掩模板FMM和支撐掩模板張四邊焊接在掩模板框架上。

由于支撐條和遮擋條對其下方的掩模板框架內拉力等作用，掩模板框架會發生形變，進而導致掩模板框架上的各支撐條、遮擋條及FMM的下沉量不同，掩模板框架上的支撐條、遮擋條及FMM，整體呈中間低、兩邊高的下彎曲形態。隨著PPI(像素數目)的提高，由于掩模板下彎曲，掩模板與蒸鍍基板之間，會引起的對位偏移或者陰影(shadow)增大的問題，都會極大地引起產品顯示混色等不良，而且將影響整個批次的產品良率。

發明內容

本發明的目的在于提供一種掩模板框架及其制作方法、蒸鍍掩模板組件及蒸鍍設備，能夠改善由于掩模板框架變形而導致的掩模板不平坦現象，改善混色、均一性差等不良，提升產品良率。

本發明所提供的技術方案如下：

第一方面，本發明實施例提供一種掩模板框架，包括一框架主體，所述框架主體包括多個邊框，且所述框架主體包括相背設置的第一表面和第二表面，每一所述邊框的第一表面上、沿該邊框的延伸方向間隔設置有多個溝槽，所述溝槽由所述第一表面向所述第二表面所在方向凹陷形成，并在垂直于所述第一表面的方向上具有開槽深度；其中每一所述邊框上的多個溝槽中，位于該邊框的中部位置處的所述溝槽的所述開槽深度小于位于該邊框的兩端位置處的所述溝槽的所述開槽深度。

可選的，每一所述邊框上的多個溝槽的所述開槽深度，從該邊框的中部位置向該邊框的兩端位置逐漸增大。

可選的，每一所述邊框上的多個溝槽中，相鄰兩個所述溝槽在該邊框的延伸方向上的間距相等，且相鄰兩個所述溝槽之間的所述開槽深度的差值為一預定值。

可選的，每一所述邊框上的多個溝槽中，相鄰兩個所述溝槽之間的所述開槽深度的差值的取值范圍為1～10微米。

可選的，每一所述邊框上的多個溝槽在所述邊框上關于一對稱軸進行對稱分布，所述對稱軸經過該邊框的兩端之間的中心點、且與所述第一表面相垂直。