[發明專利]掩模板框架及其制作方法、蒸鍍掩模板組件及蒸鍍設備

有效

• 申請號: 201810266417.0
• 申請日: 2018-03-28
• 公開（公告）號: CN108468018B
• 公開（公告）日: 2019-10-15
• 發明（設計）人: 戚海平;黃俊杰;王震
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;劉偉

1.一種掩模板框架，其特征在于，包括一框架主體，所述框架主體包括多個邊框，且所述框架主體包括相背設置的第一表面和第二表面，每一所述邊框的第一表面上、沿該邊框的延伸方向間隔設置有多個溝槽，所述溝槽由所述第一表面向所述第二表面所在方向凹陷形成，并在垂直于所述第一表面的方向上具有開槽深度；其中每一所述邊框上的多個溝槽中，位于該邊框的中部位置處的所述溝槽的所述開槽深度小于位于該邊框的兩端位置處的所述溝槽的所述開槽深度；每一所述邊框上的多個溝槽的所述開槽深度，從該邊框的中部位置向該邊框的兩端位置逐漸增大。

2.根據權利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，每一所述邊框上的多個溝槽中，相鄰兩個所述溝槽在該邊框的延伸方向上的間距相等，且相鄰兩個所述溝槽之間的所述開槽深度的差值為一預定值。

3.根據權利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，每一所述邊框上的多個溝槽中，相鄰兩個所述溝槽之間的所述開槽深度的差值的取值范圍為1～10微米。

4.根據權利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，每一所述邊框上的多個溝槽在所述邊框上關于一對稱軸進行對稱分布，所述對稱軸經過該邊框的兩端之間的中心點、且與所述第一表面相垂直。

5.根據權利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，相對設置的一對所述邊框中，其中一個所述邊框上的多個所述溝槽與另一個所述邊框上的多個所述溝槽一一對應地設置，且其中一個所述邊框上的所述溝槽與另一個所述邊框上的、與該溝槽所對應的另一所述溝槽的所述開槽深度相同。

6.根據權利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，任意兩個所述溝槽之間的所述開槽深度的差值小于或等于100微米。

7.一種蒸鍍掩模板組件，其特征在于，包括：

第一掩模板，所述第一掩模板包括縱橫交錯設置的多個支撐條和多個遮擋條；

疊放于所述第一掩模板之上的第二掩模板，所述第二掩模板為精細金屬掩模板FMM；

以及，如權利要求1至6任一項所述的掩模板框架；其中，

所述支撐條的兩端分別焊接于所述掩模板框架中相對設置的一對所述邊框的所述溝槽內；

所述遮擋條的兩端分別焊接于所述掩模板框架中相對設置的另一對所述邊框的所述溝槽內；

所述第二掩模板的四周邊緣焊接在所述掩模板框架的所述第一表面上。

8.根據權利要求7所述的蒸鍍掩模板組件，其特征在于，所述掩模板框架中，相對設置的一對所述邊框上的所述溝槽的槽底處于同一平面內，以使多個所述遮擋條處于同一平面內，以及多個所述支撐條處于同一平面內。

9.一種蒸鍍設備，其特征在于，包括如權利要求7或8所述的蒸鍍掩模板組件。

10.一種掩模板框架的制作方法，其特征在于，用于制作如權利要求1至6任一項所述的掩模板框架，所述方法包括：

獲取每一所述溝槽的開槽深度補償值△h，所述開槽深度補償值△h用于補償掩模板在每一所述溝槽所對應位置處的下沉量h，以使所述掩模板中的多個遮擋條處于同一平面，以及多個所述支撐條處于同一平面；

根據所述開槽深度補償值△h，確定每一所述溝槽的開槽深度值H；

提供一框架主體，并根據所述開槽深度值H在所述框架主體上開設所述溝槽。

11.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，所述獲取每一所述溝槽的開槽深度補償值△h，具體包括：

提供一蒸鍍掩模板樣品，所述蒸鍍掩模板樣品包括一初始掩模板框架、初始輔助掩模板及初始精細掩模板FMM，所述初始輔助掩模板包括縱橫交錯設置的多個初始支撐條和多個初始遮擋條；

檢測所述蒸鍍掩模板樣品中，每一所述初始支撐條及每一所述初始遮擋條的下沉量h；

根據所述下沉量h，獲取每一所述初始支撐條及每一所述初始遮擋條所對應的所述開槽深度補償量△h；

根據所述開槽深度補償值△h，得到所述溝槽的開槽深度值H。

12.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，所述檢測所述蒸鍍掩模板樣品中，每一所述初始支撐條及每一初始遮光條的下沉量h，具體包括：

采用激光檢測器檢測所述下沉量h，所述激光檢測器包括用于發射水平激光束的激光發射部、及用于在接收激光時產生感應信號的激光接收部，其中，將所述蒸鍍掩模板樣品水平放置，

從每一所述初始支撐條的一端向另一端發射水平激光束，并沿豎直方向移動所述激光檢測器；根據所述激光接收部的感應信號變化，獲取每一所述初始支撐條的當前高度值；將所述初始支撐條的當前高度值與預設高度值比較，得到每一所述初始支撐條的下沉量；

從每一所述初始遮擋條的一端向另一端發射水平激光束，并沿豎直方向移動所述激光檢測器；根據所述激光接收部的感應信號變化，獲取每一所述初始遮擋條的當前高度值；將所述初始遮擋條的當前高度值與預設高度值比較，得到每一所述初始遮擋條的下沉量。