[發(fā)明專利]清洗器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810261255.1 | 申請日: | 2018-03-27 |
| 公開(公告)號: | CN108971077A | 公開(公告)日: | 2018-12-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | 佐伯俊郎 | 申請(專利權)人: | 三浦工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | B08B3/02 | 分類號: | B08B3/02;B08B13/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 肖茂深 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 清洗噴嘴 長邊 方向中央 噴嘴孔 清洗器 狹縫孔 清洗 被清洗物 噴射 旋轉中心部 噴射流量 噴射液體 支持部件 縱軸旋轉 清洗槽 小流量 圓孔 | ||
提供一種不依賴于清洗噴嘴的位置,而能夠平均地清洗整個被清洗物的清洗器。在清洗槽內設置清洗噴嘴(3),從該清洗噴嘴噴射液體而清洗被清洗物的清洗器。清洗噴嘴是以其長邊方向中央部可圍繞縱軸旋轉的方式保持在支持部件。作為噴嘴孔(11),清洗噴嘴上以長邊方向隔著間隔形成有多個圓孔(11A),且在與長邊方向中央部相鄰的位置形成有沿著長邊方向的狹縫孔(11B)。使在與長邊方向中央部相鄰的位置的噴嘴孔為狹縫孔,從而能夠抑制在清洗噴嘴的旋轉中心部的旁邊的液體的噴射流量,進而能夠轉到由其他噴嘴孔的噴射。另外,能夠從狹縫孔以扇形進行噴射,即使是小流量也能夠進行大范圍的清洗。
技術領域
本發(fā)明涉及向被清洗物噴射液體而進行清洗的清洗器。
背景技術
已往,如下述專利文獻1所公開的那樣,已知有噴射式的清洗器。該文獻的圖1進行說明,清洗器具備容納被清洗物的清洗槽(2)、可旋轉地保持在設置于清洗槽內的支持部件(12),且形成有介由該支持部件供給液體而進行噴射的噴嘴孔的清洗噴嘴(3)、連接于清洗槽內的下部的液體蓄積部(4)、將該液體蓄積部的液體向清洗噴嘴的支持部件進行循環(huán)供給的循環(huán)手段(8)。另外,清洗噴嘴(3)是以可以圍繞沿著豎直方向的軸旋轉的方式,其長邊方向中央部保持在支持部件(12),由具有向豎直方向以外的方向噴射液體的噴嘴孔的中空部件形成。
專利文獻1中公開的清洗器,形成于清洗噴嘴的噴嘴孔為圓孔。另一方面,如下述的專利文獻2所公開的清洗器,形成于清洗噴嘴的噴嘴孔為長孔。在任何情況下,已往相同形狀和大小的孔以等間隔形成于清洗噴嘴。
【現(xiàn)有技術文獻】
【專利文獻】
【專利文獻1】日本專利特開2017-70882號公報(權利要求1、圖面)
【專利文獻2】日本專利特開2010-35774號公報(段落[0015]、圖2)
發(fā)明內容
【發(fā)明要解決的問題】
這種清洗器需要使來自清于洗噴嘴的液體無遺漏地接觸到被清洗物,來防止清洗不良。然而,由于清洗噴嘴以長邊方向中央部為中心進行旋轉,因此根據(jù)從清洗噴嘴的中心到距離,會使接觸到被清洗物的液體的流量發(fā)生改變。
即,從清洗噴嘴的中心朝向端部,若只是以一定間隔形成同一直徑的噴嘴孔,則越靠近清洗噴嘴的端部,接觸到被清洗物的液體的流量會減少。即,清洗噴嘴在旋轉時,來自于各噴嘴孔的噴射液接觸的區(qū)域(從端的角度來講,為圓環(huán)帶狀的被清洗區(qū)域)擴大為接近外周部的范圍,而使向每單位面積的液體的噴射流量會減少。
因此,有可能導致在清洗噴嘴的中心部的液體過多,而在外端部的液體不充分。并且,由于清洗力會被接觸被清洗物的液體的流量所影響,因此在清洗噴嘴的中心附近和端部,清洗力會出現(xiàn)不平均的情況。
于是,本發(fā)明要解決的課題是,提供一種不依賴于清洗噴嘴的位置,而能夠平均地清洗整個被清洗物的清洗器。
【解決課題的手段】
本發(fā)明是為了解決上述課題而進行的,權利要求1的發(fā)明是,一種清洗器,具備清洗槽和清洗噴嘴,所述清洗槽容納被清洗物,所述清洗噴嘴介由支持部件保持在所述清洗槽中,并形成有將介由支持部件而供給的液體進行噴射的噴嘴孔,所述清洗噴嘴的長邊方向中央部可圍繞縱軸進行旋轉地保持在所述支持部件,在所述清洗噴嘴上,作為所述噴嘴孔,以長邊方向間隔形成有多個圓孔且在與長邊方向中央部相鄰的位置形成有沿著長邊方向的狹縫孔。
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