[發(fā)明專(zhuān)利]一種氮元素注入方法及其改性刀具、模具在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810240630.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108385074A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-08-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王世興;蘇紅;黃建軍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/48 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/48 |
| 代理公司: | 深圳市精英專(zhuān)利事務(wù)所 44242 | 代理人: | 林燕云 |
| 地址: | 518000 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氮元素 預(yù)設(shè) 氮?dú)?/a> 金屬離子源 金屬離子 金屬樣品 真空室 改性 刀具 模具 離子注入設(shè)備 真空室抽真空 金屬靶材 預(yù)熱金屬 離子源 試樣架 攜帶 | ||
1.一種氮元素注入方法,應(yīng)用于離子注入設(shè)備,所述離子注入設(shè)備包括金屬離子源、真空室和位于所述真空室內(nèi)的試樣架,其特征在于,包括:
將金屬樣品放在所述試樣架上,以及將預(yù)設(shè)金屬靶材安裝在所述金屬離子源上;
將所述真空室抽真空至第一預(yù)設(shè)真空度;
預(yù)熱所述金屬離子源;
向所述真空室通入氮?dú)庖哉{(diào)節(jié)所述真空室的真空度至第二預(yù)設(shè)真空度;
設(shè)置金屬離子注入?yún)?shù)并啟動(dòng)所述離子注入設(shè)備以借助所述金屬離子源產(chǎn)生的金屬離子將所述氮?dú)庵械牡財(cái)y帶共注入至所述金屬樣品。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮元素注入方法,其特征在于,在所述將金屬樣品放在所述試樣架上之前,還包括:
使用無(wú)水乙醇對(duì)所述金屬樣品進(jìn)行超聲清洗,并將清洗后的金屬樣品吹干處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮元素注入方法,其特征在于,在所述設(shè)置金屬離子注入?yún)?shù)并啟動(dòng)所述離子注入設(shè)備以借助所述金屬離子源產(chǎn)生的金屬離子將所述氮?dú)庵械牡財(cái)y帶共注入至所述金屬樣品之后,還包括:
將所述真空室抽真空至第三預(yù)設(shè)真空度;
待所述真空室的溫度降至室溫時(shí),向所述真空室通入空氣以使得所述真空室的真空度為標(biāo)準(zhǔn)大氣壓。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮元素注入方法,其特征在于,所述金屬樣品包括黑色金屬、有色金屬和硬質(zhì)合金。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氮元素注入方法,其特征在于,所述硬質(zhì)合金包括碳化鎢基硬質(zhì)合金、碳化鈦基硬質(zhì)合金、涂層硬質(zhì)合金或鋼基硬質(zhì)合金。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮元素注入方法,其特征在于,所述第一預(yù)設(shè)真空度為1.0×10-2Pa至2.0×10-2Pa,所述第二預(yù)設(shè)真空度為1×10-1Pa。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮元素注入方法,其特征在于,所述金屬離子注入?yún)?shù)包括引出電壓、抑制電壓、電弧電壓和引出束流;所述引出電壓、抑制電壓、電弧電壓和引出束流分別為42kv、2.1kv、65v和5.5mA。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮元素注入方法,其特征在于,所述預(yù)設(shè)金屬靶材包括鈦金屬靶材、鉻金屬靶材、釔金屬靶材或鉭金屬靶材。
9.一種改性刀具,其特征在于,包括刀具本體,所述刀具本體包括工作區(qū),所述工作區(qū)為通過(guò)權(quán)利要求1至8所述的任意一種氮元素注入方法制作而成的金屬樣品。
10.一種改性模具,其特征在于,包括模座和設(shè)置在所述模座上的模具本體,所述模具本體上設(shè)有模型槽,所述模型槽的內(nèi)表面為通過(guò)權(quán)利要求1至8所述的任意一種氮元素注入方法制作而成的金屬樣品。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





