[發(fā)明專利]一種工件溫度檢測裝置及納米材料制作設備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810209477.9
• 申請日: 2018-03-14
• 公開（公告）號: CN108225593A
• 公開（公告）日: 2018-06-29
• 發(fā)明（設計）人: 劉忠林;畢凱
• 申請（專利權）人: 嘉興岱源真空科技有限公司
• 主分類號: G01K7/02
• 分類號: G01K7/02;C23C14/35;B82Y40/00
• 代理公司: 北京中政聯(lián)科專利代理事務所(普通合伙) 11489
• 代理人: 姚海波

一種工件溫度檢測裝置及納米材料制作設備，通過熱電偶連接真空腔室中的工件及轉軸上的電偶端子，電偶端子通過轉軸與活動端子連接，活動端子與環(huán)形端子盤活動接觸，環(huán)形端子盤與溫度測量儀表連接，如此將真空腔室中的工件的實際溫度傳導至溫度測量儀表上進行測量，可準確測量工件的實際溫度，經(jīng)過試驗得知不同材料的最佳鍍膜溫度并在生產(chǎn)中根據(jù)不同材料的最佳鍍膜溫度準確地控制工件的實際溫度，以達到最佳鍍膜效果。

技術領域

本發(fā)明涉及納米材料制作領域，特別是一種工件溫度檢測裝置及納米材料制作設備。

背景技術

濺射法制作納米材料的方式有：磁控濺射、偏壓濺射及反應濺射等。其中磁控濺射的原理為：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內，該區(qū)域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動。

磁控濺射制作納米材料可用來對放置在基材上的工件進行鍍膜。基材與工件放置于真空室中，鍍膜時需要對真空室進行加熱，使得工件處于適當?shù)臏囟龋瑥亩玫阶罴训腻兡ばЧ煌牧系墓ぜ兡さ淖罴褱囟炔煌，F(xiàn)有技術中無法檢測工件的實際溫度。

發(fā)明內容

有鑒于此，本發(fā)明提供了一種可檢測工件的實際溫度的工件溫度檢測裝置及納米材料制作設備，以解決上述問題。

一種工件溫度檢測裝置，用于檢測一真空腔室中的工件的實際溫度，包括工件轉盤、工件夾具、熱電偶、電偶端子、轉軸、若干活動端子、環(huán)形端子盤及溫度測量儀表，所述工件轉盤置于真空腔室中，所述工件夾具設置于工件轉盤上并夾持工件，所述轉軸至少部分地位于真空腔室中，所述工件轉盤與轉軸位于真空腔室中一端固定連接，所述電偶端子設置于轉軸位于真空腔室內的一端，所述活動端子設置于轉軸的另一端，所述熱電偶的一端與工件連接，另一端與電偶端子連接；電偶端子與活動端子連接，活動端子與環(huán)形端子盤活動接觸，環(huán)形端子盤與溫度測量儀表連接。

進一步地，所述轉軸包括可拆卸連接的主軸體及次軸體，主軸體的一端位于真空腔室內，另一端位于真空腔室外，次軸體位于真空腔室內且與主軸體位于真空腔室內的一端可拆卸地連接。

進一步地，所述主軸體位于真空腔室內的端面及次軸體朝向主軸體的端面上分別設有凹槽及凸塊。

進一步地，所述次軸體朝向主軸體的端面上設有母端子，主軸體朝向次軸體的端面上設有子端子及固定端子，子端子與固定端子滑動連接，子端子與固定端子之間設有彈簧。

進一步地，所述環(huán)形端子盤的形狀為圓形，其圓心處設有第一端子，環(huán)形端子盤繞其圓心設有若干環(huán)形的環(huán)形端子。

一種納米材料制作設備，具有如上所述的工件溫度檢測裝置、真空腔室及位于真空腔室內的工件。

與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的工件溫度檢測裝置及納米材料制作設備通過熱電偶連接真空腔室中的工件及轉軸上的電偶端子，電偶端子通過轉軸與活動端子連接，活動端子與環(huán)形端子盤活動接觸，環(huán)形端子盤與與溫度測量儀表連接，如此將真空腔室中的工件的實際溫度傳導至溫度測量儀表上進行測量，可準確測量工件的實際溫度，經(jīng)過試驗得知不同材料的最佳鍍膜溫度并在生產(chǎn)中根據(jù)不同材料的最佳鍍膜溫度準確地控制工件的實際溫度，以達到最佳鍍膜效果。

附圖說明

以下結合附圖描述本發(fā)明的實施例，其中：

圖1為本發(fā)明提供的工件溫度檢測裝置的剖視圖。

圖2為圖1中的A部分的放大示意圖。

圖3為圖1中的活動端子與環(huán)形端子的示意圖。

具體實施方式