[發明專利]處理人臉圖像的方法、裝置及可讀存儲介質

有效

• 申請號: 201810195165.7
• 申請日: 2018-03-09
• 公開（公告）號: CN108470322B
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發明（設計）人: 楊松
• 申請（專利權）人: 北京小米移動軟件有限公司
• 主分類號: G06T3/00
• 分類號: G06T3/00;G06T5/00;G06V40/16
• 代理公司: 北京英創嘉友知識產權代理事務所(普通合伙) 11447
• 代理人: 魏嘉熹;南毅寧

1.一種處理人臉圖像的方法，其特征在于，包括：

根據人臉圖像中人臉關鍵點的位置，確定所述人臉圖像中人臉輪廓上的輪廓關鍵點的偏移量；

根據所述輪廓關鍵點的偏移量、所述人臉圖像中待調整像素點與所述輪廓關鍵點的距離，基于比例插值的方式，確定所述待調整像素點的偏移量，所述待調整像素點包括所述輪廓關鍵點周圍的像素點；

按照所述輪廓關鍵點的偏移量以及所述待調整像素點的偏移量，對所述人臉圖像進行調整；

其中，所述人臉關鍵點包括所述輪廓關鍵點；根據所述輪廓關鍵點的偏移量、所述人臉圖像中待調整像素點與所述輪廓關鍵點的距離，基于比例插值的方式，確定所述待調整像素點的偏移量，包括：

根據所述輪廓關鍵點的位置，擬合用于表征所述人臉圖像中人臉輪廓的人臉輪廓曲線，所述人臉輪廓曲線上的像素點為所述輪廓關鍵點或輪廓非關鍵點；

根據所述輪廓關鍵點的偏移量、所述輪廓非關鍵點的位置以及所述輪廓非關鍵點與所述輪廓關鍵點之間的距離，基于比例插值的方式，確定所述輪廓非關鍵點的偏移量；

根據所述人臉輪廓曲線上的像素點的偏移量、所述人臉輪廓曲線上的像素點的周圍像素點的位置、以及所述人臉輪廓曲線上的像素點與所述周圍像素點之間的距離，基于比例插值的方式，確定所述周圍像素點的偏移量。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，根據人臉圖像中人臉關鍵點的位置，確定所述人臉圖像中人臉輪廓上的輪廓關鍵點的偏移量，包括：

根據所述人臉關鍵點的位置以及以下公式，確定所述輪廓關鍵點的偏移量：

d_i＝||p_lefteye-p_righteye||²

其中，Δp_i為第i個輪廓關鍵點的偏移量，為所述第i個輪廓關鍵點的偏移比例，d_i為所述人臉圖像中兩個眼睛內角之間的距離，p_lefteye為位于左眼睛內角處的人臉關鍵點的位置，p_righteye為位于右眼睛內角處的人臉關鍵點的位置，為第i個輪廓關鍵點的水平偏移比例，為第i個輪廓關鍵點的豎直偏移比例。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，根據所述輪廓關鍵點的偏移量、所述輪廓非關鍵點的位置以及所述輪廓非關鍵點與所述輪廓關鍵點之間的距離，基于比例插值的方式，確定所述輪廓非關鍵點的偏移量，包括：

根據所述輪廓關鍵點的偏移量、所述輪廓非關鍵點的位置以及以下比例插值公式，確定所述輪廓非關鍵點的偏移量：

其中，Δp'_i為第i個輪廓非關鍵點的偏移量，Δp₁和Δp₂為距離所述第i個輪廓非關鍵點最近的兩個所述輪廓關鍵點的偏移量，m₁和m₂分別為所述第i個輪廓非關鍵點分別與最近的兩個所述輪廓關鍵點的距離。

4.一種處理人臉圖像的裝置，其特征在于，包括：

第一確定模塊，被配置為根據人臉圖像中人臉關鍵點的位置，確定所述人臉圖像中人臉輪廓上的輪廓關鍵點的偏移量；

第二確定模塊，被配置為根據所述輪廓關鍵點的偏移量、所述人臉圖像中待調整像素點與所述輪廓關鍵點的距離，基于比例插值的方式，確定所述待調整像素點的偏移量，所述待調整像素點包括所述輪廓關鍵點周圍的像素點；

調整模塊，被配置為按照所述輪廓關鍵點的偏移量以及所述待調整像素點的偏移量，對所述人臉圖像進行調整；

其中，所述人臉關鍵點包括所述輪廓關鍵點；所述第二確定模塊包括：

擬合子模塊，被配置為根據所述輪廓關鍵點的位置，擬合用于表征所述人臉圖像中人臉輪廓的人臉輪廓曲線，所述人臉輪廓曲線上的像素點為所述輪廓關鍵點或輪廓非關鍵點；

第二確定子模塊，被配置為根據所述輪廓關鍵點的偏移量、所述輪廓非關鍵點的位置以及所述輪廓非關鍵點與所述輪廓關鍵點之間的距離，基于比例插值的方式，確定所述輪廓非關鍵點的偏移量；

第三確定子模塊，被配置為根據所述人臉輪廓曲線上的像素點的偏移量、所述人臉輪廓曲線上的像素點的周圍像素點的位置、以及所述人臉輪廓曲線上的像素點與所述周圍像素點之間的距離，確定所述周圍像素點的偏移量。