[發(fā)明專利]一種高精度束流能量分析狹縫裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810191215.4 | 申請日： | 2018-03-08 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN108387924A | 公開（公告）日： | 2018-08-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王忠明;屈二淵;邱孟通;陳偉 | 申請（專利權(quán)）人： | 西北核技術(shù)研究所 |
| 主分類號(hào)： | G01T1/29 | 分類號(hào)： | G01T1/29 |
| 代理公司： | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211 | 代理人： | 汪海艷 |
| 地址： | 710024 陜*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 狹縫 石墨塊 束流能量 束流 能量分析 驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 束流損失 狹縫裝置 兩套 連接信號(hào)線 測量石墨 電流信號(hào) 分析系統(tǒng) 寬度可調(diào) 水平運(yùn)動(dòng) 真空系統(tǒng) 絕緣塊 測量 垂直 分析 | ||
1.一種高精度束流能量分析狹縫裝置，其特征在于：包括真空腔室、位于真空腔室內(nèi)的左右兩塊石墨塊及位于真空腔室外的兩套驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；
所述真空腔室的前后端與真空束流管道連通；
兩套驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)均包括電機(jī)、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)及推進(jìn)桿，所述推進(jìn)桿穿過真空腔室分別與左右兩塊石墨塊連接；電機(jī)通過各自的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)推進(jìn)桿，使得左右兩塊石墨塊沿與電子束流垂直的方向運(yùn)動(dòng)；
左右兩塊石墨塊上分別連接有信號(hào)引出線，兩條信號(hào)引出線穿過真空腔室引出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度束流能量分析狹縫裝置，其特征在于：左右兩塊石墨塊在束流方向前后錯(cuò)位。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高精度束流能量分析狹縫裝置，其特征在于：兩塊石墨塊為大小相同的矩形石墨塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高精度束流能量分析狹縫裝置，其特征在于：所述真空腔室包括縱向管狀真空腔體、兩段橫向管狀真空腔體及兩段波紋管；
所述縱向管狀真空腔體的兩端與真空束流管道連通；
兩段橫向管狀真空腔體的一端分別固定在縱向管狀真空腔體的管壁相對位置處，并與縱向管狀真空腔體相連通；兩段橫向管狀真空腔體的另一端開有能夠使推進(jìn)桿穿過的開孔；
兩段波紋管的一端分別與兩段橫向管狀真空腔體連接并通過橫向管狀真空腔體上的開孔與橫向管狀真空腔體連通，兩段波紋管的另一端密封并與傳動(dòng)機(jī)構(gòu)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高精度束流能量分析狹縫裝置，其特征在于：還包括位于石墨塊及推進(jìn)桿之間的左右兩個(gè)絕緣塊。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的高精度束流能量分析狹縫裝置，其特征在于：石墨塊及絕緣塊位于橫向管狀真空腔體內(nèi)，推進(jìn)桿的一端與絕緣塊連接，另一端穿過橫向管狀真空腔體的開孔后固定在波紋管內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高精度束流能量分析狹縫裝置，其特征在于：所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括底座，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)固定在底座上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的高精度束流能量分析狹縫裝置，其特征在于：波紋管焊接在橫向管狀真空腔體上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的高精度束流能量分析狹縫裝置，其特征在于：還包括位于縱向管狀真空腔體上的觀察窗。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的高精度束流能量分析狹縫裝置，其特征在于：石墨塊厚10mm，絕緣塊材料為陶瓷。
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