[發明專利]用于測量的光學裝置及其測量方法

有效

• 申請號: 201810188477.5
• 申請日: 2018-03-07
• 公開（公告）號: CN110243573B
• 公開（公告）日: 2022-12-20
• 發明（設計）人: 黃健庭;李嘉樟
• 申請（專利權）人: 揚明光學股份有限公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 上海弼興律師事務所 31283
• 代理人: 薛琦

一種用于測量的光學裝置，包括：入射面、第一反射面、第二反射面、第三反射面及第四反射面。入射面設于一光束的傳遞路徑上，第一反射面設于光束的傳遞路徑上，第二反射面、第三反射面及第四反射面設于光束的傳遞路徑上。其中，光束的傳遞路徑如下：(1)經由第一反射面到達待測量物體后，再反射穿透入射面后，并依序傳遞至第二反射面、第三反射面及第四反射面，到達一觀測面；或(2)光束穿透入射面到達待測量物體后再反射至第一反射面，第一反射面反射光束，并依序傳遞至第二反射面、第三反射面及第四反射面后，到達觀測面。

技術領域

本發明涉及一種用于測量的光學裝置及其測量方法，尤其涉及一種用于測量投影裝置的光學裝置及其測量方法。

背景技術

投影裝置是一種可將圖像投影到投影屏幕上以呈現給使用者觀看的設備。現有的投影裝置在制造時，往往會因為部件及/或機械結構上的誤差，造成投射出的圖像產生失真及/或錯誤。例如投影裝置用于裝設投影鏡頭的鏡頭座、內部用于產生圖像的顯示元件及/或傳遞圖像的鏡片或棱鏡等元件，若這些元件本身在制造時規格有誤差，或是這些元件在組裝時產生誤差的話，都會影響到最終投影裝置的成像品質。

現有投影裝置對這些元件產生的誤差皆仰賴制造元件的廠商提高制作的精度，以降低對成像品質的影響。然而，在目前投影裝置的分辨率日漸提高的情況下，制造元件的廠商的生產精度往往已經無法符合需求，因此如何建立一套有效的測量裝置，以準確且有效的校正投影裝置實為本領域相關人員所關注的焦點。

發明內容

本發明的一觀點在于提供一種用于測量的光學裝置，可以測量出待測量物體的偏差值，并可依據此偏差值校正或調整待測量物體。

本發明的其他觀點和優點可以從本發明所揭露的技術特征中得到進一步的了解。

本發明的一實施例提供一種用于測量的光學裝置，包括入射面、第一反射面、第二反射面、第三反射面及第四反射面。入射面設于一光束的傳遞路徑上，第一反射面設于光束的傳遞路徑上，第二反射面、第三反射面及第四反射面設于光束的傳遞路徑上。其中，光束的傳遞路徑如下：(1)經由第一反射面到達待測量物體后，再反射穿透入射面后，并依序傳遞至第二反射面、第三反射面及第四反射面，到達一觀測面；或(2)光束穿透入射面到達待測量物體后再反射至第一反射面，第一反射面反射光束，并依序傳遞至第二反射面、第三反射面及第四反射面后，到達觀測面。

本發明的一實施例提供一種用于測量的光學方法，包括：(1)投射一光束至一第一反射面，第一反射面反射光束至待測量物體后，再反射穿透入射面后，依序傳遞至第二反射面、第三反射面及第四反射面后，到達一觀測面；或(2)投射一光束至所述入射面，光束穿透入射面到達待測量物體后再反射至第一反射面，第一反射面反射光束，并依序傳遞至第二反射面、第三反射面及第四反射面后，到達觀測面。

本發明實施例的用于測量的光學裝置及其測量方法可以測量出待測量物體的偏差值，并可依據此偏差值校正或調整待測量物體，可以于生產時即時判斷修正方向，減少測量時間、減少組裝工時并增加組裝精度及提高成品率。

上述說明僅是本發明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發明的技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，并且為了讓本發明的上述和其他目的、特征和優點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖,詳細說明如下。

附圖說明

圖1A是本發明的用于測量的光學裝置一實施例的示意圖。

圖1B是本發明的用于測量的光學裝置一實施例的示意圖。

圖1C是本發明的用于測量的光學裝置一實施例的一校正方法示意圖。

圖1D是本發明的用于測量的光學裝置一實施例的另一校正方法示意圖。

圖2是本發明的用于測量的光學裝置另一實施例的示意圖。

圖3是本發明的用于測量的光學裝置又一實施例的示意圖。