[發(fā)明專(zhuān)利]基板修補(bǔ)裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810180229.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108570661A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-09-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 清水秀教 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 株式會(huì)社V技術(shù) |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C16/455 | 分類(lèi)號(hào): | C23C16/455;C23C16/48;G02F1/13;H01L27/32;H01L51/00 |
| 代理公司: | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 玉昌峰;吳孟秋 |
| 地址: | 日本神*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 工作部 高壓氣體罐 基板修補(bǔ) 小型氣體 側(cè)接頭 大容量 罐側(cè) 修補(bǔ) 更換作業(yè) 原料氣體 激光CVD 省略 側(cè)罐 基板 儲(chǔ)存 | ||
一種基板修補(bǔ)裝置,能夠省略工作部側(cè)罐的更換作業(yè),且易于進(jìn)行用于修補(bǔ)用基板的修補(bǔ)處理的處理用氣體的供給。工作部(3)具備:小型氣體罐(5),儲(chǔ)存處理用氣體并向激光CVD處理部(4)供給處理用氣體;以及工作部側(cè)接頭(6),能夠向小型氣體罐(5)導(dǎo)入原料氣體,在不干擾工作部(3)的位置設(shè)有大容量高壓氣體罐(7)以及通過(guò)供給用管道(8)連接于大容量高壓氣體罐(7)的供給用罐側(cè)接頭(9),工作部側(cè)接頭(6)能夠與供給用罐側(cè)接頭(9)結(jié)合以及解除結(jié)合。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及對(duì)形成于基板表面的布線圖案等的缺陷進(jìn)行修補(bǔ)的基板修補(bǔ)裝置。
背景技術(shù)
液晶面板、有機(jī)EL(Electro-Luminescence:電致發(fā)光)面板等的顯示面板具備形成有布線圖案、絕緣膜等的基板。在顯示面板的制造工序中,需要對(duì)布線圖案、絕緣膜等的缺陷進(jìn)行修補(bǔ)的修復(fù)處理。作為修復(fù)處理,存在通過(guò)激光進(jìn)行布線圖案的短路部位的切斷的去除加工、通過(guò)激光CVD(Chemical Vapor Deposition:化學(xué)氣相沉積)技術(shù)進(jìn)行布線圖案、絕緣膜等的成膜的所謂的CVD加工。專(zhuān)利文獻(xiàn)1公開(kāi)了具備沿著顯示裝置的基板的表面移動(dòng)的工作部的修補(bǔ)裝置。在工作部上搭載有進(jìn)行去除加工的激光加工處理部、進(jìn)行CVD加工的CVD處理部。該激光加工處理部、CVD處理部與工作部一起沿著基板的表面移動(dòng),進(jìn)行該基板的缺陷部位的修復(fù)處理。
上述CVD處理部需要成膜所需要的原料氣體等的處理用氣體。作為向CVD處理部供給原料氣體等的方法,存在以下兩種方法。第一方法為,如圖5所示那樣,使用具有可撓性的連接軟管101,將CVD機(jī)構(gòu)102與設(shè)置于裝置103之外的大型的氣體罐104連接的方法。第二方法為將儲(chǔ)氣筒搭載于工作部的方法。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專(zhuān)利文獻(xiàn)
專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2010-78899號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的課題
但是,在上述第一方法中,在連接軟管101的耐久性、可動(dòng)性以及盤(pán)繞上存在問(wèn)題。在第一方法中,連接軟管101易于變?yōu)槎虊勖T诘谝环椒ㄖ?,連接軟管101消耗時(shí)的維護(hù)變得麻煩。在第一方法中,需要確保連接軟管101的盤(pán)繞空間,可能導(dǎo)致裝置103的大型化。在第一方法中,當(dāng)連接軟管101隨著工作部移動(dòng)時(shí),需要用于防止連接軟管101下落至基板上的未圖示的支承單元,可能導(dǎo)致裝置103的大型化以及復(fù)雜化。
在上述第二方法中,由于無(wú)法增大向工作部的搭載重量,因此,儲(chǔ)氣筒的重量及容量受到限制。因此,在第二方法中,存在搭載于工作部的儲(chǔ)氣筒的更換頻率變高、生產(chǎn)效率下降這樣的問(wèn)題。作為儲(chǔ)氣筒的更換作業(yè),需要進(jìn)行如下復(fù)雜的作業(yè):從工作部取下儲(chǔ)氣筒,將該儲(chǔ)氣筒向裝置外輸送,輸送填充有原料氣體的新的更換用的儲(chǔ)氣筒并安裝于工作部。
本發(fā)明鑒于上述課題而作出,其目的在于提供一種基板修補(bǔ)裝置,能夠省略工作部側(cè)罐的更換作業(yè),能夠容易地進(jìn)行用于修補(bǔ)用基板的修補(bǔ)處理的處理用氣體的供給。
用于解決課題的手段
為了解決上述課題而達(dá)成目的,本發(fā)明的實(shí)施方式的特征在于,基板修補(bǔ)裝置具備:主體部;工作部,設(shè)置為相對(duì)于所述主體部能夠移動(dòng);以及修補(bǔ)處理部,設(shè)置于所述工作部,所述基板修補(bǔ)裝置通過(guò)所述修補(bǔ)處理部并使用處理用氣體對(duì)修補(bǔ)用基板的表面的缺陷進(jìn)行修補(bǔ),其中,所述工作部具備:工作部側(cè)罐,儲(chǔ)存處理用氣體并向所述修補(bǔ)處理部供給所述處理用氣體;以及工作部側(cè)接頭,能夠向所述工作部側(cè)罐導(dǎo)入處理用氣體,在不干擾所述主體部和所述工作部的位置固定有通過(guò)管道與供給用罐連接的供給用罐側(cè)接頭,所述工作部側(cè)接頭能夠與所述供給用罐側(cè)接頭結(jié)合或解除結(jié)合。
作為上述實(shí)施方式,優(yōu)選為,通過(guò)使所述工作部朝向所述供給用罐側(cè)接頭移動(dòng),所述工作部側(cè)接頭與所述供給用罐側(cè)接頭結(jié)合,通過(guò)使所述工作部朝向遠(yuǎn)離所述供給用罐側(cè)接頭的方向移動(dòng),所述工作部側(cè)接頭與所述供給用罐側(cè)接頭解除結(jié)合。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
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