[發(fā)明專利]觸控面板的直接圖案化方法及其觸控面板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810175902.7 | 申請日: | 2018-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN110221731B | 公開(公告)日: | 2023-03-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李昭松;紀賀勛;方芳;黃振潘;余建賢;陳志民;吳珊瑀 | 申請(專利權)人: | 宸鴻光電科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/042 | 分類號: | G06F3/042 |
| 代理公司: | 北京律誠同業(yè)知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 王玉雙;李巖 |
| 地址: | 中國臺灣臺北市內湖*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 面板 直接 圖案 方法 及其 | ||
一種觸控面板的直接圖案化方法及其觸控面板,直接圖案化方法包括:提供基板,具有顯示區(qū)與周邊區(qū),周邊線路具有接合墊;設置金屬納米線層;設置半固化膜層;設置負型感光層;進行黃光微影,包括:將負型感光層進行曝光以定義去除區(qū)與保留區(qū);以及使用顯影液將位于去除區(qū)的負型感光層、膜層與金屬納米線層去除,以制作出設置于顯示區(qū)的觸控感應電極并裸露出接合墊,觸控感應電極電性連接于周邊線路,其中觸控感應電極是由膜層與金屬納米線層所組成;其中在該保留區(qū)中,負型感光層覆蓋于膜層與該金屬納米線層之上;以及固化膜層。
技術領域
本發(fā)明是關于一種觸控面板的直接圖案化方法及其觸控面板。
背景技術
由于透明導體可同時具有光穿透性與適當?shù)膶щ娦裕蚨糜谠S多顯示或觸控相關的裝置中。一般而言,透明導體可以是各種金屬氧化物,例如氧化銦錫(IndiumTinOxide,ITO)、氧化銦鋅(Indium Zinc Oxide,IZO)、氧化鎘錫(Cadmium Tin Oxide,CTO)或摻鋁氧化鋅(Aluminum-doped Zinc Oxide,AZO)。金屬氧化物薄膜可通過物理氣象沉積法或化學氣象沉積法而形成,并通過雷射工藝而形成適當圖案。然而,這些金屬氧化物薄膜的制作方法可能面臨高昂的成本、復雜的工藝以及低良率的問題。在部份情況下,經(jīng)圖案化的金屬氧化物薄膜也可能有容易被觀察到的問題。因此,現(xiàn)今發(fā)展出了多種透明導體,例如利用納米線等材料所制作的透明導體。
然而利用納米線制作觸控電極,納米線與周邊區(qū)的金屬引線在工藝上及結構上都有許多待解決的問題,例如傳統(tǒng)工藝將納米線涂布在顯示區(qū)及周邊區(qū),并覆蓋周邊區(qū)的金屬引線,之后利用蝕刻液將納米線進行圖案化,以在顯示區(qū)制作出觸控感應電極,并且蝕刻納米線以在金屬引線上裸露出焊接墊,以與外部電路板進行連接。上述工藝所采用的蝕刻液大多為強酸性,故會導致金屬引線受到蝕刻液的作用,使產品可靠度下降;另外,蝕刻液的殘留問題也需要額外的清潔過程方能克服。
再一方面,利用納米線制作觸控感應電極的工藝中,通常會需要在納米在線成形外涂層(overcoat),以保護納米線并將納米線固著于基板上,而上述工藝所采用的蝕刻液僅能移除納米線,故進行蝕刻工藝后,外涂層會殘留下來,殘留的外涂層的厚度會在接觸阻抗與電極保護性之間形成兩難沖突(trade off)。具體而言,若考慮電極的保護性,殘留的外涂層的厚度會盡可能的加厚,但在經(jīng)過蝕刻后,焊接墊上殘留外涂層的厚度過厚(例如大于20nm),將造成焊接墊與外部電路板之間的接觸阻抗過大,進而導致線路在傳遞信號時產生耗損或失真,也就是說,過厚的殘留外涂層夾設在焊接墊與外部電路板之間,會造成產品在電性表現(xiàn)的問題。反之,若考慮接觸阻抗,殘留的外涂層的厚度會盡可能的減薄,但在經(jīng)過蝕刻后,形成觸控感應電極的納米在線所殘留外涂層的厚度太薄,將無法提供納米線有效的保護,也就是說,過薄的殘留外涂層會造成產品的耐用性不足的問題。
因此在利用納米線制作觸控感應電極的工藝上、電極結構上必須依照材料特性重新設計,使產品達到較佳的表現(xiàn)。
發(fā)明內容
本發(fā)明的部分實施方式,可提高顯示區(qū)的觸控感應電極的耐用性,并藉由接合墊與外部電路板的電極墊之間的直接接觸結構,同時形成一低阻抗的導電線路。此外,本發(fā)明的部分實施方式中,提出了觸控電極的直接圖案化方法,因而產生不同于以往的觸控面板結構。
本發(fā)明的部分實施方式提出一種觸控面板的直接圖案化方法,包括:提供一基板,該基板具有一顯示區(qū)與一周邊區(qū),其中一周邊線路設置在該周邊區(qū),該周邊線路具有一接合墊;設置由金屬納米線所組成的一金屬納米線層于該顯示區(qū)與該周邊區(qū);設置一半固化的膜層于該金屬納米線層上;設置一負型感光層于該半固化的膜層上;進行一黃光微影步驟,包括:將該負型感光層進行曝光以定義出一去除區(qū)與一保留區(qū);以及使用顯影液將位于該去除區(qū)的該負型感光層、該膜層與該金屬納米線層去除,以制作出設置于該顯示區(qū)上的一觸控感應電極并裸露出設置于該周邊區(qū)的該接合墊,該觸控感應電極電性連接于該周邊線路,其中該觸控感應電極是由該膜層與該金屬納米線層所組成;其中在該保留區(qū)中,該負型感光層覆蓋于該膜層與該金屬納米線層之上;以及將該膜層進行一固化步驟。
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G06F3-01 .用于用戶和計算機之間交互的輸入裝置或輸入和輸出組合裝置
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