[發明專利]康普頓散射成像方法有效
| 申請號： | 201810159506.5 | 申請日： | 2018-02-26 |
| 公開（公告）號： | CN108535293B | 公開（公告）日： | 2020-08-25 |
| 發明（設計）人： | 張嵐;顧鐵;劉柱;王偉 | 申請（專利權）人： | 張嵐 |
| 主分類號： | G01N23/20066 | 分類號： | G01N23/20066 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明偉 |
| 地址： | 100080 北京市海淀區蘇*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 康普頓 散射 成像 方法 | ||
1.一種康普頓散射成像方法，其特征在于，所述康普頓散射成像方法至少包括：
采用均勻坐標系對4π空間進行采樣分割，其中，所述均勻坐標系中每個像素對探測器具有相同的立體角；
基于所述均勻坐標系進行康普頓散射投影，根據康普頓散射投影得到射線源的定向角度；
基于所述均勻坐標系中的康普頓散射投影計算得到射線源的二維空間分布；
采用插值法將所述均勻坐標系轉換到笛卡爾坐標系，將所述射線源在笛卡爾坐標系中顯示。
2.根據權利要求1所述的康普頓散射成像方法，其特征在于：坐標系的轉換進一步包括：
將所述均勻坐標系中采樣點的二維空間分布對應到所述笛卡爾坐標系中，通過插值的方式計算得到所述笛卡爾坐標系中各采樣點的值，進而得到在所述笛卡爾坐標系中的射線源分布情況。
3.根據權利要求1或2所述的康普頓散射成像方法，其特征在于：采用一維插值或二維插值的方法實現坐標系的轉換。
4.根據權利要求3所述的康普頓散射成像方法，其特征在于：插值法包括最鄰近插值法、平均值插值法、拉格朗日插值法、阿基瑪插值法、牛頓插值法或線性插值法中的任意一種或幾種組合。
5.根據權利要求1或2所述的康普頓散射成像方法，其特征在于：所述康普頓散射成像方法還包括：在所述笛卡爾坐標系中對所述射線源的分布情況進行計算分析，以提升康普頓散射成像的計算時間和精度。
6.根據權利要求1所述的康普頓散射成像方法，其特征在于：所述射線源的定向角度滿足如下關系式：
其中，E0為所述射線源的初始能量，E1為所述射線源在探測器內部第一反應位置沉積的能量，meC2為電子質量。
7.根據權利要求1或6所述的康普頓散射成像方法，其特征在于：檢測所述射線源的定向角度的裝置為伽馬譜儀，伽馬相機或康普頓相機。
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