[發明專利]光學檢測設備及其光源尋邊機構在審
| 申請號: | 201810152027.0 | 申請日: | 2018-02-14 |
| 公開(公告)號: | CN110164788A | 公開(公告)日: | 2019-08-23 |
| 發明(設計)人: | 陳明生 | 申請(專利權)人: | 特銓股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66;G01B11/00 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139 | 代理人: | 孫皓晨;侯奇慧 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反射光線 遮蔽 光學檢測設備 光源組 基板 光源 表面運動方向 影像傳感器 入射光線 透光基板 調光 照射 光線通過 一次反射 檢測 外部 應用 | ||
1.一種應用于檢測一同側具有不同邊界的表面的透光基板的光源尋邊機構,其特征在于,包含:
一光源組,其用于產生射向該基板的一受測表面的一入射光線,該入射光線經過該基板后產生一一次反射光線及至少一二次反射光線;
一遮蔽組,其用以遮蔽該至少一二次反射光線,且讓該照射受測表面的一次反射光線通過后由一設于外部的影像傳感器接收,以及
一調光組,其用以讓光源組對該基板的受測表面運動方向邊界形成一反射光線,并讓該照射受測表面運動方向邊界的反射光線通過遮蔽組后由影像傳感器接收;以通過受測表面的一次反射光線與邊界的反射光射的不同亮度來確認該受測表面的邊界。
2.如權利要求1所述的光源尋邊機構,其特征在于,該光源尋邊機構進一步包含有一封閉式且不透光的箱體,該箱體內部形成有間隔不透光的一第一腔室及一第二腔室,又箱體的第一腔室與第二腔室底部呈開口狀供組裝前述的遮蔽組,其中該第一腔室供安裝前述的光源組,箱體于第二腔室異于第一腔室的側壁形成有一供一次反射光線通過的出光口。
3.如權利要求1所述的光源尋邊機構,其特征在于,該光源組具有一燈殼,且燈殼內設有至少一向下射出光線的發光元件。
4.如權利要求3所述的光源尋邊機構,其特征在于,該光源組的燈殼能夠利用兩個鎖設于箱體第一腔室內壁面的安裝架固定,該多個相對的安裝架上具有一軸孔及一同軸心的長弧槽,供分別設有一凸軸及一鎖固件鎖設該燈殼兩端,以通過凸軸與長弧槽而調整燈殼內發光元件光線射出的角度。
5.如權利要求2所述的光源尋邊機構,其特征在于,該遮蔽組設于箱體底部,該遮蔽組分別具有一道對應第一腔室、供入射光線通過的射出口及一道對應第二腔室、供一次反射光線通過的射入口,該遮蔽組于射出口兩端中至少一端相對射入口的一側分別具有一對應受測表面邊界的尋邊孔槽,供調光組的反射光線通過。
6.如權利要求5所述的光源尋邊機構,其特征在于,該遮蔽組由一第一遮光板及一第二遮光板所組成,該第一遮光板上具有射出口及尋邊孔槽,該第二遮光板具有射入口,又該遮蔽組于箱體底面兩側分別鎖設有一夾壓板,供選擇性限制第一遮光板、第二遮光板的移動。
7.如權利要求2所述的光源尋邊機構,其特征在于,該調光組則安裝于箱體內具光源組的第一腔室內部,該調光組由兩個第一反射板及兩個第二反射板所組成,供將光源組的光線由遮蔽組尋邊孔槽射出。
8.如權利要求2所述的光源尋邊機構,其特征在于,該調光組于對應第一腔室兩端對應尋邊孔槽處分別鎖設有一立板,且兩側立板上分別鎖設有一承座,兩個承座上分別設有對應光源組的第一反射板,又該多個承座上具有一軸孔及一同軸心的長弧槽,供分別設有一鎖固件鎖設相對的立板上,供調整第一反射板相對光源組發光元件的角度,調光組兩端的尋邊孔槽另側分設有一支架,各該支架上設有一可選擇性調整相對第一反射板位置的頂板,且各該頂板底面具有對應第一反射板的第二反射板,供將光源組的反射光線由尋邊孔槽射出。
9.一種光學檢測設備,其特征在于,其于一機臺上設有一工作平臺,該工作平臺上設有一可線性移動的載臺,該載臺供選擇性設置一受測件,且機臺于工作平臺兩側中至少一側設有一光學模塊,供逐一檢測該受測件的其中一表面或同步檢測該受測件的兩個表面;
該多個光學模塊包含有一如權利要求1至8中任一項所述的光源尋邊機構及一影像傳感器,該影像傳感器供接收光源尋邊機構所產生經該基板的受測表面的一次反射光線及受測表面邊界的反射光線,又該多個光學模塊的光源尋邊機構光源與影像傳感器并連接有一處理單元,供操控該光源尋邊機構內光源強度及處理該影像傳感器的成像數據,且該處理單元具有一供顯示成像畫面的顯示器。
10.一種可供檢測一同側具有不同邊界的表面的透光基板的光學檢測設備,其特征在于,包含:
一光源組,其用于產生射向該基板的一受測表面的一入射光線,該入射光線經過該基板后會產生一一次反射光線及至少一二次反射光線;
一影像傳感器;
一遮蔽組,其用以遮蔽該至少一二次反射光線,且讓該照射受測表面的一次反射光線通過后由一設于外部的影像傳感器接收;及
一調光組,其用以讓光源組對該基板的受測表面運動方向邊界形成一反射光線,并讓該照射受測表面運動方向邊界的反射光線通過遮蔽組后由影像傳感器接收。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
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H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





