[發(fā)明專利]基板的研磨裝置和基板的處理系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810151773.8
• 申請(qǐng)日: 2018-02-14
• 公開（公告）號(hào): CN108453618A
• 公開（公告）日: 2018-08-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安田穗積;小畠嚴(yán)貴;高橋信行;作川卓;高田暢行
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社荏原制作所
• 主分類號(hào): B24B37/07
• 分類號(hào): B24B37/07;B24B37/20;B24B37/005;B24B37/34
• 代理公司: 上海華誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31300
• 代理人: 張麗穎

1.一種研磨裝置，用于對(duì)基板進(jìn)行局部研磨，其特征在于，具有：

研磨部件，該研磨部件的與基板接觸的加工面比基板小；

按壓機(jī)構(gòu)，該按壓機(jī)構(gòu)用于將所述研磨部件向基板按壓；

第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于在與基板的表面平行的第一運(yùn)動(dòng)方向上對(duì)所述研磨部件施加運(yùn)動(dòng)；

第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于在第二運(yùn)動(dòng)方向上對(duì)所述研磨部件施加運(yùn)動(dòng)，該第二運(yùn)動(dòng)方向在與所述第一運(yùn)動(dòng)方向垂直且與基板的表面平行的方向上具有成分；以及

控制裝置，該控制裝置用于控制研磨裝置的動(dòng)作，

所述研磨部件構(gòu)成為，在對(duì)基板進(jìn)行研磨時(shí)，所述研磨部件的與基板接觸的區(qū)域上的任意點(diǎn)在相同的所述第一運(yùn)動(dòng)方向上運(yùn)動(dòng)，

所述控制裝置構(gòu)成為對(duì)所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的動(dòng)作進(jìn)行控制，以使用所述研磨部件對(duì)基板進(jìn)行局部研磨。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，

所述控制裝置構(gòu)成為在基板的研磨中變更所述第一運(yùn)動(dòng)方向的運(yùn)動(dòng)速度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的研磨裝置，其特征在于，

所述第二運(yùn)動(dòng)方向的移動(dòng)量在基板與所述研磨部件的接觸區(qū)域中的第二運(yùn)動(dòng)方向的成分的長度以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任意一項(xiàng)所述的研磨裝置，其特征在于，

該研磨裝置具有第三驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該第三驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于使所述研磨部件在基板的半徑方向上移動(dòng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任意一項(xiàng)所述的研磨裝置，其特征在于，具有：

工作臺(tái)，該工作臺(tái)用于保持基板；以及

第四驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該第四驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于使所述工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)。

6.根據(jù)引用權(quán)利要求4的權(quán)利要求5所述的研磨裝置，其特征在于，

通過所述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)而產(chǎn)生的在所述第二運(yùn)動(dòng)方向上的研磨部件的運(yùn)動(dòng)速度比所述第三驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使研磨部件運(yùn)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)速度、以及所述第四驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述工作臺(tái)相對(duì)于所述研磨部件運(yùn)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)速度大。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的研磨裝置，其特征在于，

所述工作臺(tái)的運(yùn)動(dòng)是旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)、角度旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)以及直線運(yùn)動(dòng)中的任意一個(gè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中的任意一項(xiàng)所述的研磨裝置，其特征在于，

所述控制裝置具有對(duì)基板的被研磨區(qū)域的目標(biāo)研磨量進(jìn)行計(jì)算的運(yùn)算部，并且構(gòu)成為根據(jù)所述運(yùn)算部所計(jì)算出的目標(biāo)研磨量來控制研磨裝置。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任意一項(xiàng)所述的研磨裝置，其特征在于，

該研磨裝置具有用于調(diào)節(jié)所述研磨部件的調(diào)節(jié)部件。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的研磨裝置，其特征在于，

該研磨裝置具有使所述調(diào)節(jié)部件運(yùn)動(dòng)的第五驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。

11.根據(jù)引用權(quán)利要求5的權(quán)利要求9所述的研磨裝置，其特征在于，

所述調(diào)節(jié)部件配置于所述工作臺(tái)外。

12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中的任意一項(xiàng)所述的研磨裝置，其特征在于，

該研磨裝置具有用于向基板上供給液體的液體供給噴嘴。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的研磨裝置，其特征在于，

所述液體包含研磨劑、水以及清洗藥液中的至少一個(gè)。

14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中的任意一項(xiàng)所述的研磨裝置，其特征在于，

所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)構(gòu)成為使所述研磨部件旋轉(zhuǎn)。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的研磨裝置，其特征在于，

所述研磨部件呈圓板形狀。