[發(fā)明專利]一種隱晶質(zhì)石墨的提純方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810149557.X
• 申請(qǐng)日: 2018-02-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108059157A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-05-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 岑對(duì)對(duì);于陽(yáng)輝;張韜;程飛飛;胡銳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州中材非金屬礦工業(yè)設(shè)計(jì)研究院有限公司
• 主分類號(hào): C01B32/215
• 分類號(hào): C01B32/215
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 鞏克棟

1.一種隱晶質(zhì)石墨的提純方法，其特征在于，所述提純方法包括如下步驟：

1)以低品位隱晶質(zhì)石墨為原料，進(jìn)行超細(xì)粉碎處理；

2)將經(jīng)步驟1)超細(xì)粉碎處理后的隱晶質(zhì)石墨置于反應(yīng)釜中進(jìn)行堿熔處理；

3)將經(jīng)步驟2)堿熔后的隱晶質(zhì)石墨進(jìn)行酸浸，經(jīng)水洗、過(guò)濾、烘干后得到高品位隱晶質(zhì)石墨。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提純方法，其特征在于，步驟1)中，所述低品位隱晶質(zhì)石墨為隱晶質(zhì)石墨含量為60～75％；

優(yōu)選地，所述低品位隱晶質(zhì)石墨選自湖南郴州低品位隱晶質(zhì)石墨；

優(yōu)選地，所述高品位隱晶質(zhì)石墨為隱晶質(zhì)石墨含量為99％以上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的提純方法，其特征在于，步驟1)中，所述超細(xì)粉碎后的礦樣的粒徑為45μm以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3之一所述的提純方法，其特征在于，步驟2)中，所述堿熔過(guò)程為：將經(jīng)步驟1)超細(xì)粉碎處理后的隱晶質(zhì)石墨置于反應(yīng)釜中，加入堿、助熔劑和水，100～300℃下反應(yīng)1～3h進(jìn)行堿熔處理；

優(yōu)選地，步驟2)中，所述堿熔過(guò)程還可以在馬弗爐中進(jìn)行。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的提純方法，其特征在于，步驟2)中，所述堿與所述超細(xì)粉碎處理后的隱晶質(zhì)石墨的質(zhì)量比為(0.5:1)～(2:1)；

優(yōu)選地，所述堿為氫氧化鈉或氫氧化鉀。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的提純方法，其特征在于，步驟2)中，所述助熔劑與所述超細(xì)粉碎處理后的隱晶質(zhì)石墨的質(zhì)量比為(0.02:1)～(0.1:1)；

優(yōu)選地，所述助熔劑為偏硼酸鈉或偏硼酸鋰。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的提純方法，其特征在于，步驟2)中，所述水與所述超細(xì)粉碎處理后的隱晶質(zhì)石墨的質(zhì)量比為(4:1)～(0.5:1)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-7之一所述的提純方法，其特征在于，步驟3)中，所述酸浸的過(guò)程為：將經(jīng)步驟2)堿熔后的隱晶質(zhì)石墨水洗至pH為7～8，一次加酸，攪勻后靜置沉降，抽出上層液體后二次加酸，將酸浸后的礦物水洗至中性，過(guò)濾、烘干后得到高品位隱晶質(zhì)石墨。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的提純方法，其特征在于，步驟3)中，所述酸的體積濃度為1～5％；

優(yōu)選地，所述酸為稀硫酸；

優(yōu)選地，所述沉降的時(shí)間為0.5～2h。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-9之一所述的提純方法，其特征在于，所述提純方法包括如下步驟：

1)以隱晶質(zhì)石墨含量為60～75％的低品位隱晶質(zhì)石墨為原料，進(jìn)行超細(xì)粉碎處理至礦樣的粒徑為45μm以下；

2)將經(jīng)步驟1)超細(xì)粉碎處理后的隱晶質(zhì)石墨置于反應(yīng)釜中，加入堿、助熔劑和水，100～300℃下反應(yīng)1～3h進(jìn)行堿熔處理；

3)將經(jīng)步驟2)堿熔后的隱晶質(zhì)石墨水洗至pH為7～8，一次加酸，攪勻后靜置沉降0.5～2h，其中，所述酸的體積濃度為1～5％，抽出上層液體后二次加酸，將酸浸后的礦物水洗至中性，過(guò)濾、烘干后得到高品位隱晶質(zhì)石墨。