[發(fā)明專利]基板處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810147264.8
• 申請日: 2018-02-12
• 公開（公告）號: CN108428644B
• 公開（公告）日: 2020-10-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馮傳彰;劉茂林
• 申請（專利權(quán)）人: 辛耘企業(yè)股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 王玉雙;李巖

一種基板處理裝置包括一底座、一基板載臺(tái)、多個(gè)收集單元和一阻卻單元。基板載臺(tái)可旋轉(zhuǎn)得和底座連接，基板載臺(tái)用以固定和旋轉(zhuǎn)基板。多個(gè)收集單元環(huán)繞于基板載臺(tái)外圍，多個(gè)收集單元間為固定式設(shè)置，各收集單元用以收集處理基板的一處理液。阻卻單元設(shè)置于基板載臺(tái)與多個(gè)收集單元之間。當(dāng)其中一收集單元與基板載臺(tái)對應(yīng)，且該其中一收集單元收集處理基板之后流濺的處理液時(shí)，阻卻單元阻卻其他收集單元收集處理液。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明系關(guān)于一種基板處理裝置，特別是一種可分別回收不同處理液的基板處理裝置。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體工藝中，常會(huì)運(yùn)用一基板處理裝置對基板進(jìn)行蝕刻或清洗。基板處理裝置具有一旋轉(zhuǎn)平臺(tái)、一液體施加件和多個(gè)液體回收環(huán)。旋轉(zhuǎn)平臺(tái)用以固定基板，并讓基板旋轉(zhuǎn)。液體施加件用以對旋轉(zhuǎn)的基板施加蝕刻液或清洗液。多個(gè)液體回收環(huán)用以分別收集旋轉(zhuǎn)的基板甩出的蝕刻液或清洗液，以回收蝕刻液或清洗液并再加以利用。然而，在多個(gè)液體回收環(huán)收集旋轉(zhuǎn)的基板甩出的液體時(shí)，液體容易四處亂飛而飛濺至收集另一液體的回收環(huán)里；例如，蝕刻液可能飛濺至專門用以回收清洗液的回收環(huán)里，如此一來將會(huì)對該回收環(huán)里的清洗液造成污染而無法再次利用。

因此，有必要提供一種基板處理裝置，其可以確實(shí)得分別回收不同處理液，并且避免液體之間互相污染。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的系在提供一種可分別回收不同處理液的基板處理裝置。

為達(dá)成上述的目的，本發(fā)明的一種基板處理裝置用以處理一基板，基板處理裝置包括一底座、一基板載臺(tái)、多個(gè)收集單元和一阻卻單元。基板載臺(tái)可旋轉(zhuǎn)得和底座連接，基板載臺(tái)用以固定和旋轉(zhuǎn)基板。多個(gè)收集單元環(huán)繞于基板載臺(tái)外圍，多個(gè)收集單元間為固定式設(shè)置，各收集單元用以收集處理基板的一處理液。阻卻單元設(shè)置于基板載臺(tái)與多個(gè)收集單元之間。當(dāng)其中一收集單元與基板載臺(tái)對應(yīng)，且該其中一收集單元收集處理基板之后流濺的處理液時(shí)，阻卻單元阻卻其他收集單元收集處理液。

根據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，其中流濺至阻卻單元上的處理液，不再流入多個(gè)收集單元。

根據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，其中阻卻單元更包括一第一阻卻部和一第二阻卻部；當(dāng)該其中一收集單元與基板載臺(tái)對應(yīng)，并收集處理基板的處理液時(shí)，第一阻卻部阻卻該其中一收集單元的一上緣，第二阻卻部阻卻該其中一收集單元的一下緣。

根據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，其中第一阻卻部包括一阻卻環(huán)形壁和一液體收集區(qū)，液體收集區(qū)設(shè)置于阻卻環(huán)形壁的內(nèi)側(cè)；阻卻環(huán)形壁將流濺至第一阻卻部的處理液導(dǎo)入至液體收集區(qū)。

根據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，其中當(dāng)多個(gè)收集單元升降，使得該其中一收集單元與基板載臺(tái)對應(yīng)，且該其中一收集單元收集處理基板之后流濺的處理液時(shí)，阻卻單元阻卻其他收集單元收集處理液。

根據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，其中當(dāng)基板載臺(tái)升降，使得該其中一收集單元與基板載臺(tái)對應(yīng)，且該其中一收集單元收集處理基板之后流濺的處理液時(shí)，阻卻單元阻卻其他收集單元收集處理液。

根據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，其中阻卻單元升降至對應(yīng)該其中一收集單元；第一阻卻部升降至阻卻該其中一收集單元的上緣，第二阻卻部升降至阻卻該其中一收集單元的下緣。

根據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，其中第二阻卻部環(huán)設(shè)于基板載臺(tái)外側(cè)，并與基板載臺(tái)升降連動(dòng)。

根據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，基板處理裝置更包括一流體加速單元，流體加速單元可旋轉(zhuǎn)得設(shè)置于基板載臺(tái)外側(cè)，并環(huán)繞設(shè)置于基板載臺(tái)與第二阻卻部之間；流體加速單元可控制轉(zhuǎn)速，并可相對基板載臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)，以將處理液飛濺至該其中一收集單元。

根據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，其中阻卻單元更包括一第一阻卻部升降件，第一阻卻部升降件連接第一阻卻部，并跨越設(shè)置于多個(gè)收集單元的外側(cè)。

根據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，其中第一阻卻部具有一環(huán)形腔徑，環(huán)形腔徑大于基板載臺(tái)；藉此，基板載臺(tái)可相對第一阻卻部移動(dòng)，并穿越第一阻卻部。