[發(fā)明專利]作為用于在襯底上形成層的還原劑的二(三甲基甲硅烷基)六元環(huán)系統(tǒng)和相關(guān)化合物

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810145060.0
• 申請日: 2014-06-27
• 公開（公告）號: CN108193194B
• 公開（公告）日: 2020-10-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 查爾斯·溫特;約瑟夫·彼得·克萊斯科
• 申請（專利權(quán)）人: 韋恩州立大學(xué)
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/52;C23C16/18;C23C16/20
• 代理公司: 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 陳萬青;姚開麗

1.一種化合物，所述化合物選自由以下各項(xiàng)組成的組：

其中，R、R¹、R^1’、R^1”、R²、R³、R⁴和R⁵各自獨(dú)立地是H、C_1-10烷基、C_6-14芳基或C_4-14雜芳基。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，所述化合物如下式所示：

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，所述化合物如下式所示：

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，所述化合物如下式所示：

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，所述化合物如下式所示：

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，所述化合物如下式所示：

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，所述化合物如下式所示：

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，所述化合物如下式所示：

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，所述化合物如下式所示：