[發(fā)明專利]等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)的工作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810125979.3 | 申請日: | 2018-02-08 |
| 公開(公告)號: | CN108181374A | 公開(公告)日: | 2018-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳飛華;徐岳;繆恩強(qiáng);俞曉峰 | 申請(專利權(quán))人: | 聚光科技(杭州)股份有限公司;杭州譜育科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類號: | G01N27/62 | 分類號: | G01N27/62 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 310052 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 等離子體 炬管 質(zhì)譜分析系統(tǒng) 炬焰 圖像 點火 中心軸線重合 使用壽命 中心軸線 拍攝 矩管 成功率 輸出 響應(yīng) | ||
本發(fā)明提供了一種等離子體?質(zhì)譜分析系統(tǒng)的工作方法,所述等離子體?質(zhì)譜分析系統(tǒng)的工作方法包括以下步驟:(A1)在炬管點火前,拍攝所述炬管和線圈的圖像;根據(jù)所述圖像去調(diào)整所述炬管和線圈的相對位置,使得所述炬管的中心軸線和所述線圈圍成區(qū)域的中心軸線重合;(A2)在所述炬管點火后,拍攝炬焰和線圈的圖像;根據(jù)炬焰和線圈的圖像去調(diào)整所述炬焰的位置,使得等離子體?質(zhì)譜分析系統(tǒng)輸出正常的響應(yīng)值。本發(fā)明具有出譜圖快、點火成功率高、矩管使用壽命長、等優(yōu)點。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及質(zhì)譜分析,特別涉及等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)的工作方法。
背景技術(shù)
在ICP-MS分析時,炬管全部采用水平放置,采用取樣錐深入等離子體中截取其中的離子進(jìn)入質(zhì)譜儀進(jìn)行質(zhì)量分析。因為等離子體功率很高,所以需要采用水冷的取樣錐和大流量抽風(fēng)的風(fēng)冷系統(tǒng)對等離子體、取樣錐散熱,這樣不僅需要很大流量的冷卻氣(氬氣)對炬管進(jìn)行保護(hù),以免燒毀炬管,另外大流量的風(fēng)冷系統(tǒng)不可避免的會吹動等離子體,導(dǎo)致等離子體內(nèi)部的進(jìn)樣通道會受到風(fēng)的影響產(chǎn)生擾動,導(dǎo)致分析結(jié)果產(chǎn)生不必要的波動。
另外深入到等離子體中的截取錐也受到等離子體高溫的影響,隨著加熱時間的變化,導(dǎo)致ICP-MS采集到的離子數(shù)逐漸變化,反映在一起性能上就是信號逐漸偏移,穩(wěn)定性不好。
同時因為水平放置炬管,受熱力學(xué)的正常影響,炬管的上部空間自然是溫度較高,下部空間溫度較低,等離子體分布不均勻、溫度分布也不均勻,容易導(dǎo)致炬管上部空間更容易燒毀。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)方案中的不足,本發(fā)明提供了等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)的工作方法,實現(xiàn)了提高點火成功率、矩管使用壽命長、出譜圖快、實時校正的目的。
等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)的工作方法,所述工作方法包括以下步驟:
(A1)在炬管點火前,拍攝所述炬管和線圈的圖像;
根據(jù)所述圖像去調(diào)整所述炬管和線圈的相對位置,使得所述炬管的中心軸線和所述線圈圍成區(qū)域的中心軸線重合;
(A2)在所述炬管點火后,拍攝炬焰和線圈的圖像;
根據(jù)炬焰和線圈的圖像去調(diào)整所述炬焰的位置,使得等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)輸出正常的響應(yīng)值。
根據(jù)上述的等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)的工作方法,優(yōu)選地,在步驟(A1)中,同時進(jìn)行泵排空、吹掃管路和關(guān)閉霧化工作。
根據(jù)上述的等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)的工作方法,可選地,在步驟(A2)中,分析炬焰的形狀,確定出炬焰的有效區(qū)域;在所述有效區(qū)域內(nèi),根據(jù)折中查找法得出炬焰和進(jìn)樣錐的錐孔的最優(yōu)位置。
根據(jù)上述的等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)的工作方法,優(yōu)選地,利用炬焰與線圈的相對位置,得出炬焰的有效區(qū)域。
根據(jù)上述的等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)的工作方法,優(yōu)選地,所述炬焰的有效區(qū)域為:
X∈[X1,X2]:d1-4<X1<X2<4+d2;
Y∈[Y1,Y2]:d3-4<Y1<Y2<4+d4;
d1是炬焰的最左邊到左側(cè)線圈的距離,d2是炬焰的最右邊到右側(cè)線圈的距離,d3是炬焰的最上邊到上線圈的距離,d4是炬焰的最下邊到下側(cè)線圈的距離。
根據(jù)上述的等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)的工作方法,優(yōu)選地,在步驟(A1)中,位置的調(diào)整方式為:
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