[發明專利]軍用電子設備基板的等離子體清洗氣體和清潔方法

在審

• 申請號: 201810098286.X
• 申請日: 2018-01-31
• 公開（公告）號: CN108485836A
• 公開（公告）日: 2018-09-04
• 發明（設計）人: 車春玲
• 申請（專利權）人: 山東佳星環?？萍加邢薰?/a>
• 主分類號: C11D1/94
• 分類號: C11D1/94;C11D3/60;C11D3/04;C11D3/18;C11D3/20;C11D3/24;C11D3/33;C11D3/382;B08B3/08
• 代理公司: 濟南舜昊專利代理事務所(特殊普通合伙) 37249
• 代理人: 江莉莉

1.軍用電子設備基板的等離子體清洗劑，包括下述的重量份數的原料：

壬基酚聚氧乙烯醚 5-15 椰子油酰二乙醇胺5-20

十八烷基二羥乙基甜菜堿 1-10 N-十二烷基丙氨酸 1-9

乙二胺四乙酸1-4 檸檬酸1-3

異丙醇1-5 精制檸檬油烯1-4

環氧丙烷1-4 精制松節油1-4

脂肪醇聚氧乙烯醚1-4 亞硝酸鈉1-4

二氯五氟丙烷1-3 丙酮1-5

水20-60。

2.如權利要求1所述的軍用電子設備基板的等離子體清洗劑，其特征在于，包括下述的重量份數的原料：

壬基酚聚氧乙烯醚 10 椰子油酰二乙醇胺15

十八烷基二羥乙基甜菜堿5 N-十二烷基丙氨酸6

乙二胺四乙酸2 檸檬酸2

異丙醇3 精制檸檬油烯2

環氧丙烷2 精制松節油2

脂肪醇聚氧乙烯醚2 亞硝酸鈉2

二氯五氟丙烷2 丙酮3

水40份。

3.如權利要求1所述的軍用電子設備基板的等離子體清洗劑，其特征在于，還包括：甲氧基九氟丁烷4份，一氯五氟丙烷2份，二氯一氟乙烷3份。

4.如權利要求1所述的軍用電子設備基板的等離子體清洗劑，其特征在于，該清洗劑的制備方法包括下述的步驟：

（1）按配比將20份水加入到反應釜中，升溫至35-45℃，然后分別加入壬基酚聚氧乙烯醚10 份、椰子油酰二乙醇胺15份、十八烷基二羥乙基甜菜堿5份、 N-十二烷基丙氨酸6份、乙二胺四乙酸2 份、檸檬酸2份；

（2）再將20份水加入到反應釜中，再加入精制檸檬油烯2 份、環氧丙烷2份、精制松節油2份、脂肪醇聚氧乙烯醚2份、亞硝酸鈉2份、二氯五氟丙烷2份；攪拌均勻；

（3）最后將異丙醇3 份、丙酮3份加入到（2）的物料中，攪拌均勻，得產品。

5.如權利要求1所述的軍用電子設備基板的等離子體清洗劑，其特征在于，該清洗劑的制備方法包括下述的步驟：

（1）按配比將20份水加入到反應釜中，升溫至35-45℃，然后分別加入壬基酚聚氧乙烯醚10份、椰子油酰二乙醇胺15份、十八烷基二羥乙基甜菜堿5份、 N-十二烷基丙氨酸6份、乙二胺四乙酸2 份、檸檬酸2份；

（2）再將20份水加入到反應釜中，再加入精制檸檬油烯2 份、環氧丙烷2份、精制松節油2份、脂肪醇聚氧乙烯醚2份、亞硝酸鈉2份、二氯五氟丙烷2份、甲氧基九氟丁烷4份，一氯五氟丙烷2份，二氯一氟乙烷3份；攪拌均勻；

（3）最后將異丙醇3 份、丙酮3份加入到（2）的物料中，攪拌均勻，得產品。

6.軍用電子設備基板的等離子體清洗劑，其制備方法包括下述的步驟：

（1）按配比將20份水加入到反應釜中，升溫至35-45℃，然后分別加入壬基酚聚氧乙烯醚10份、椰子油酰二乙醇胺15份、十八烷基二羥乙基甜菜堿5份、 N-十二烷基丙氨酸6份、乙二胺四乙酸2份、檸檬酸2份；

（2）再將20份水加入到反應釜中，再加入精制檸檬油烯2 份、環氧丙烷2份、精制松節油2份、脂肪醇聚氧乙烯醚2份、亞硝酸鈉2份、二氯五氟丙烷2份、甲氧基九氟丁烷4份，一氯五氟丙烷2份，二氯一氟乙烷3份；攪拌均勻；

（3）最后將異丙醇3 份、丙酮3份加入到（2）的物料中，攪拌均勻，得產品。

7.如權利要求1所述的軍用電子設備基板的等離子體清洗劑的清潔方法：將權利要求1中的清洗劑稀釋3-5倍，再均勻噴涂于軍用電子設備基板表面，過3-8分鐘，然后再采用清水沖洗，最后，再次噴涂權利要求1中的清洗劑，再次用清水沖洗。

8.如權利要求1所述的軍用電子設備基板的等離子體清洗劑的清潔方法：將權利要求1中的清洗劑稀釋4倍，再均勻噴涂于軍用電子設備基板表面，過6分鐘，然后再采用清水沖洗，最后，再次噴涂權利要求1中的清洗劑，再次用清水沖洗。