[發明專利]一種合成LiXSe2多晶化合物與單晶體的方法在審
| 申請號: | 201810084654.5 | 申請日: | 2018-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN108277536A | 公開(公告)日: | 2018-07-13 |
| 發明(設計)人: | 徐亞東;郭力健;薛望祺;肖寶;介萬奇 | 申請(專利權)人: | 西北工業大學 |
| 主分類號: | C30B29/52 | 分類號: | C30B29/52;C30B11/02;C30B28/06 |
| 代理公司: | 西北工業大學專利中心 61204 | 代理人: | 王鮮凱 |
| 地址: | 710072 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 單晶體 多晶化合物 化學計量比 單質 裝入 熔點 化合物熔點 多晶原料 化合反應 化學活性 石英坩堝 真空封裝 搖擺爐 蒸汽壓 內層 坩堝 制備 保溫 搖擺 冷卻 偏離 合成 生長 | ||
本發明涉及一種LiXSe2多晶化合物與單晶體的制備方法,將Li、In、Ga、Se幾種單質裝入內層坩堝與石英坩堝中并真空封裝,裝入搖擺爐中,在LiXSe2化合物熔點以上,保溫、搖擺,隨后冷卻到室溫。得到的LiXSe2(X=In/Ga/InyGa1?y)化合物符合其化學計量比。通過控制溫度,在Li、Se較低的蒸汽壓下,使Li、In、Ga和Se四種單質在Li、Se熔點附近發生化合反應,得到Li2Se、InxSey和GaxSey等化合物,以固定Li與Se的化學活性,從而減少Li與Se成分的損失,利用該方法得到的LiXSe2(X=In/Ga/InyGa1?y)多晶原料生長得到的LiXSe2(X=In/Ga/InyGa1?y)單晶體的化學成分對化學計量比的偏離可以控制在5%以內。
技術領域
本發明屬于多晶化合物與單晶體合成方法,涉及一種合成LiXSe2多晶化合物與單晶體的方法,涉及非線性光學與中子探測用LiXSe2(X=In/Ga/InyGa1-y)多晶化合物與單晶體的制備方法。
背景技術
LiXSe2(X=In/Ga/InyGa1-y)晶體是一種性能優異的非線性光學晶體,基于其倍頻、和頻、差頻、光參量振蕩等二階非線性光學特性,可以制成二次諧波發生器、頻率轉換器、光參量振蕩器等非線性光學器件。除此之外,由于6Li對中子的俘獲截面很大,利用LiXSe2(X=In/Ga/InyGa1-y)晶體可以制備成中子探測器,在核能應用、反恐、防核擴散、高能核探測等領域具有很廣泛的應用。
但是制備LiXSe2(X=In/Ga/InyGa1-y)晶體還存在許多問題,由于Li的化學性質活潑,容易與石英坩堝反應,同時在合成和單晶制備的過程中會損失大量的Se。目前的方法通常會在合成多晶料時提前加入一定過量的Li和Se,但是得到的LiXSe2 (B=In/Ga/InyGa1-y)單晶體的成分與其1:1:2的化學計量比存在一定的偏差,其中 Li的偏離量可以達到25%以上。考慮到Li與Se的蒸氣壓隨著溫度的上升而不斷增加,高溫下會導致更多的Se氣化,同時高溫下氣化的Li與石英的反應更加劇烈,會導致 Li的氣液平衡不斷被打破,從而拉動Li的氣液平衡向氣體方向移動。
目前文獻中也有報道低溫下進行合料,其升溫至Se的熔點處(220℃-240℃)進行保溫,進行Li與Ga的反應,隨后在500℃處進行保溫,進行Se與Li和Ga的反應減少Se的蒸汽壓。本發明根據DSC熱分析測試,認為Li與Se在Li的熔點處(180℃) 已經進行反應,從而可以提供一種制備溫度更低、流程更簡單的合成工藝。
發明內容
要解決的技術問題
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