[發(fā)明專利]除泡裝置及除泡方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810080269.3
• 申請(qǐng)日: 2018-01-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108296134A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝銳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): B05C11/10
• 分類號(hào): B05C11/10
• 代理公司: 深圳市銘粵知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304
• 代理人: 孫偉峰;陽(yáng)志全

本發(fā)明公開(kāi)了一種除泡裝置，包括上游的進(jìn)液通道、下游的出液通道、設(shè)于所述進(jìn)液通道與所述出液通道之間以傳輸粘稠液體的傳輸通道以及用于對(duì)所述傳輸通道加熱的第一加熱單元，所述傳輸通道相對(duì)于水平面傾斜設(shè)置。本發(fā)明還公開(kāi)了一種除泡方法。本發(fā)明通過(guò)利用傾斜的傳輸通道傳輸粘稠度高的液體材料，且在液體傳輸過(guò)程中對(duì)液體材料進(jìn)行加熱使其中的氣泡內(nèi)的氣體膨脹，氣泡上升而破裂，從而去除液體材料內(nèi)的殘留氣泡；另外，通過(guò)外加真空吸附力使得氣泡加速上升而破裂，再利用加熱攪拌的方式更進(jìn)一步地二次去除材料內(nèi)的殘留氣泡，材料內(nèi)的殘留氣泡清除效果更佳，避免了后續(xù)高溫制程中材料內(nèi)的氣泡破裂而引起產(chǎn)品不良。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及液體預(yù)處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種除泡裝置及除泡方法。

背景技術(shù)

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機(jī)發(fā)光二極管)面板是利用有機(jī)電致發(fā)光二極管制成的顯示屏。由于具備自發(fā)光的有機(jī)電致發(fā)光二極管，不需背光源、對(duì)比度高、厚度薄、視角廣、反應(yīng)速度快、可用于撓曲性面板、使用溫度范圍廣、構(gòu)造及制程較簡(jiǎn)單等優(yōu)異的特性，被認(rèn)為是下一代的平面顯示器新興應(yīng)用技術(shù)。

在柔性O(shè)LED面板制程中，需要在玻璃基板上覆蓋一層PI(Polyimide的簡(jiǎn)稱，俗稱聚酰亞胺)材料來(lái)代替玻璃成為TFT(Thin Film Transistor，即薄膜晶體管)基材，PI材料屬于粘稠度較高的液體，因此其內(nèi)部存留的氣泡(Bubble)很難去除，因PI材料的厚度一般只有20um左右，當(dāng)有氣泡的PI材料涂布在玻璃基板上，經(jīng)過(guò)后期的高溫制程時(shí)，具有氣泡的PI材料容易破裂而引發(fā)產(chǎn)品不良的缺陷。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明提供了一種用于去除PI液等粘稠液體內(nèi)部殘留氣泡的除泡裝置及除泡方法，可以有效地去除材料內(nèi)部殘留的氣泡，避免后續(xù)高溫制程中材料內(nèi)的氣泡破裂而引起產(chǎn)品不良。

為了實(shí)現(xiàn)上述的目的，本發(fā)明采用了如下的技術(shù)方案：

一種除泡裝置，包括上游的進(jìn)液通道、下游的出液通道、設(shè)于所述進(jìn)液通道與所述出液通道之間以傳輸粘稠液體的傳輸通道以及用于對(duì)所述傳輸通道加熱的第一加熱單元，所述傳輸通道相對(duì)于水平面傾斜設(shè)置。

作為其中一種實(shí)施方式，所述的除泡裝置還包括用于抽真空的第一抽氣裝置，所述傳輸通道設(shè)于真空腔體內(nèi)并與所述第一抽氣裝置連通。

作為其中一種實(shí)施方式，所述第一抽氣裝置的抽氣管口設(shè)于所述傳輸通道上方。

作為其中一種實(shí)施方式，所述的除泡裝置還包括設(shè)于所述傳輸通道下游并分別與所述傳輸通道、所述出液通道連通的沉降池，且所述沉降池的底面低于所述傳輸通道的下游端。

作為其中一種實(shí)施方式，所述第一加熱單元還對(duì)所述沉降池進(jìn)行加熱。

作為其中一種實(shí)施方式，所述第一加熱單元包括加熱源和導(dǎo)熱層，所述導(dǎo)熱層覆蓋于所述傳輸通道和所述沉降池外表面，所述加熱源用于對(duì)所述導(dǎo)熱層加熱。

作為其中一種實(shí)施方式，所述沉降池設(shè)于真空腔體內(nèi)，并連接有用于抽真空的抽氣裝置。

作為其中一種實(shí)施方式，所述的除泡裝置還包括攪拌機(jī)構(gòu)，所述攪拌機(jī)構(gòu)伸入所述沉降池內(nèi)，用于對(duì)所述沉降池內(nèi)的液體進(jìn)行攪拌。

作為其中一種實(shí)施方式，所述的除泡裝置還包括第二加熱單元，所述第二加熱單元與所述攪拌機(jī)構(gòu)連接，以對(duì)所述攪拌機(jī)構(gòu)加熱。

本發(fā)明還提供了一種除泡方法，使用上述的除泡裝置，液體自所述進(jìn)液通道注入后沿所述進(jìn)液通道流動(dòng)，自所述出液通道流出。