[發明專利]一種膜層顏色可調的PVD鍍膜方法

在審

• 申請號: 201810072302.8
• 申請日: 2018-01-25
• 公開（公告）號: CN110079764A
• 公開（公告）日: 2019-08-02
• 發明（設計）人: 許志
• 申請（專利權）人: 福建省輝銳材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/14;C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
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本發明公開了一種膜層顏色可調的PVD鍍膜方法，所述方法包括如下步驟：步驟一、鍍金屬膜層；步驟二、鍍低折射率膜層；步驟三、鍍高折射率膜層；步驟四、重復步驟二和步驟三數次，得到不同顏色的膜層。本發明提供膜層顏色可調的PVD鍍膜方法，通過不同厚度、不同的金屬膜層和不同的高低折射率膜層、及不同厚度的高低折射率膜層的鍍覆，實現了鍍膜膜層顏色可調，滿足不同產品對不同顏色的需求，使得PVD鍍膜可以應用到更多的顏色裝飾的領域中；該方法無需使用乙炔等特氣，操作簡單，生產過程安全無污染，膜層顏色鮮艷，重復性好。

技術領域

本發明涉及PVD鍍膜技術領域，尤其涉及一種膜層顏色可調的 PVD鍍膜方法。

背景技術

PVD即物理氣相沉積，采用在真空條件下通過蒸發、濺射等方式在產品表面沉積各種薄膜層，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，具有速度快附著力好的突出優點，同時PVD鍍膜技術是一種環保的鍍膜工藝，因此在裝飾性、功能性等鍍膜領域應用越來越廣泛。

在裝飾性鍍膜行業中，膜層顏色是一個非常關鍵的技術指標，PVD裝飾鍍膜屬于一種光學膜，產生顏色的主要原因就是光的干涉。PVD鍍膜需要先選擇靶材種類、材質和氣體(氮氣、氧氣、乙炔、甲烷、氬氣等)，確定靶材及氣體種類，然后調整氣體比例、用量、濺射功率、濺射時間、基材處理溫度、濺射溫度、濺射時間等工藝參數，制備出顏色膜層。PVD 鍍膜的顏色膜層與靶材反應的氣體直接相關，如N₂、C₂H₂、CH₄、O₂，參與靶材反應的氣體為單一氣體時，所鍍的膜層為單色調膜層；當參與靶材反應的氣體為兩種或兩種以上時，所鍍的膜層為復合色調膜層。

現有PVD鍍膜技術為實現多種顏色鍍膜層一般都需用到乙炔、甲烷等特氣，生產過程中存在一定的危險性，同時腔室及靶材表面容易殘留含碳氣體，鍍另一種顏色膜時需長時間清潔靶材表面，比較麻煩；再者當使用兩種以上反應氣體時，容易因氣體分布不均勻造成每次鍍膜顏色存在差異；因此，現有的PVD鍍顏色膜層工藝較復雜，生產較不安全，鍍膜重復性較差，現有技術還有待改進。

發明內容

針對上述問題，本發明提供了一種膜層顏色可調的PVD鍍膜方法，通過鍍覆金屬膜層和高低折射率膜層，調整膜層厚度，調整高低折射率膜層的交叉結構，及高低折射率膜層的鍍覆層數等實現PVD鍍膜膜層顏色可調，滿足不同產品表面的顏色鍍覆需求。

為解決上述技術問題，本發明所采用的技術方案是：一種膜層顏色可調的PVD鍍膜方法，所述方法包括如下步驟：

步驟一、鍍金屬膜層；

步驟二、鍍低折射率膜層；

步驟三、鍍高折射率膜層；

步驟四、重復步驟二和步驟三數次，得到不同顏色的膜層。

進一步的，所述步驟一鍍金屬膜層為將待鍍產品傳入裝有金屬靶材的鍍膜腔室，開啟泵抽真空及加熱裝置進行基底加熱，使得本底真空達到 1×10^-3Pa及達到80-150℃工藝溫度后，向腔室通入10-1000sccm的氬氣，啟動濺射電源，設置濺射功率1-15KW，鍍膜時間10-300S，得到厚度為1-100nm 的金屬膜層。

進一步的，所述金屬膜層為銅(Cu)、銀(Ag)、鋁(Al)、鉻(Cr)等金屬膜層，或鎳銅(NiCu)、鎳鉻(NiCr)等合金膜層。

進一步的，所述步驟二鍍低折射率膜層為將鍍完金屬膜層的產品傳入裝有可形成低折射率膜層的靶材鍍膜腔室，加熱達到80-150℃的工藝溫度，向腔室通入工藝氣體，設置濺射功率1-15KW，鍍膜時間1-300S，得到厚度為1-100nm的低折射率膜層。

進一步的，所述低折射率膜層為氧化硅、氮化硅等膜層。