[發明專利]鎳皮膜的形成方法和用于該方法的鎳溶液

在審

• 申請號: 201810071614.7
• 申請日: 2018-01-25
• 公開（公告）號: CN108624924A
• 公開（公告）日: 2018-10-09
• 發明（設計）人: 佐藤祐規
• 申請（專利權）人: 豐田自動車株式會社
• 主分類號: C25D3/12
• 分類號: C25D3/12
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 王瀟悅;段承恩

本發明的課題是在使固體電解質膜與金屬基材接觸的狀態下，抑制金屬基材的腐蝕并在金屬基材的表面形成鎳皮膜。通過一種鎳皮膜的形成方法能夠解決上述課題，該方法包括：將陽極、作為陰極發揮作用的金屬基材、和固體電解質膜，以所述固體電解質膜位于所述陽極與所述金屬基材之間且所述固體電解質膜與所述金屬基材的表面接觸的方式配置，所述固體電解質膜含有包含鎳離子和氯離子的溶液；以及在所述陽極與所述金屬基材之間施加電壓，由此在與所述固體電解質膜接觸的所述金屬基材的表面形成鎳皮膜，所述氯離子的濃度為0.002～0.1mol/L。

技術領域

本發明涉及鎳皮膜的形成方法和用于該方法的鎳溶液。

背景技術

鎳具有優異的物理性質，因此在各種基材的表面形成有鎳皮膜。

例如，專利文獻1公開了一種涂裝不銹鋼部件的制造方法，該方法包括在不銹鋼基材上實施伍德沖擊鍍鎳，并在所形成的伍德沖擊鍍鎳層上實施陽離子電泳涂裝。

專利文獻2公開了一種金屬膜形成方法，該方法不限定于鎳皮膜，包括對夾持含有固體電解質和金屬離子的固體電解質膜而配置的陰極基材與陽極基材之間施加電壓，由此將金屬離子還原從而在陰極基材上析出金屬的工序。

專利文獻3公開了為解決在使用鎳溶液實施專利文獻2的方法時產生的問題(即固體電解質膜與基材之間的氫氣產生)，使用具有預定pH值的鎳溶液實施專利文獻2的方法。

在先技術文獻

專利文獻1：日本特開2013-253306號公報

專利文獻2：日本特開2012-219362號公報

專利文獻3：日本特開2015-92012號公報

發明內容

判斷出例如專利文獻2和3那樣，想要在使固體電解質膜與金屬基材(特別是鋁基材)接觸的狀態下在金屬基材的表面形成鎳皮膜時，金屬基材會發生腐蝕。

因此，本發明的目的是在使固體電解質膜與金屬基材接觸的狀態下，抑制金屬基材的腐蝕并在金屬基材的表面形成鎳皮膜。

本發明人發現，金屬基材腐蝕的原因是由于鎳溶液所含的氯離子(chlorideions)。另一方面，還判斷出如果從鎳溶液中除去氯離子，則鎳皮膜的形成速度明顯降低。因此，本發明人對氯離子的濃度進行了詳細研究，結果發現了能夠維持或提高鎳皮膜的形成速度、并且抑制金屬基材的腐蝕的氯離子濃度。本發明人發現的氯離子濃度，其范圍與以往的鎳皮膜的形成方法中的濃度大不相同。

作為本發明的實施方式可舉出以下內容。

[1]一種鎳皮膜的形成方法，包括：

將陽極、作為陰極發揮作用的金屬基材、和固體電解質膜，以所述固體電解質膜位于所述陽極與所述金屬基材之間且所述固體電解質膜與所述金屬基材的表面接觸的方式配置，所述固體電解質膜含有包含鎳離子和氯離子的溶液；以及

在所述陽極與所述金屬基材之間施加電壓，由此在與所述固體電解質膜接觸的所述金屬基材的表面形成鎳皮膜，

所述氯離子的濃度為0.002～0.1mol/L。

[2]根據[1]所述的鎳皮膜的形成方法，所述氯離子的濃度為0.01～0.06mol/L。

[3]根據[1]或[2]所述的鎳皮膜的形成方法，所述溶液的pH值為2.5～4.25。

[4]根據權利要求[3]所述的鎳皮膜的形成方法，所述溶液的pH值為3～4。

[5]根據[1]～[4]的任一項所述的鎳皮膜的形成方法，所述金屬基材為鋁基材。

[6]一種溶液，是用于鎳皮膜的形成方法、且包含鎳離子和氯離子的溶液，