[發明專利]一種具有優異抗鱗爆性的高強度搪玻璃用鋼及其制造方法在審
| 申請號: | 201810062102.4 | 申請日: | 2018-01-23 |
| 公開(公告)號: | CN110066960A | 公開(公告)日: | 2019-07-30 |
| 發明(設計)人: | 孫全社;王雙成;魏嬌;姚士杰;魯巖;王俊凱 | 申請(專利權)人: | 寶山鋼鐵股份有限公司 |
| 主分類號: | C22C38/02 | 分類號: | C22C38/02;C22C38/04;C22C38/06;C22C38/50;C22C38/48;C22C38/42;C22C38/44;C22C38/14;C22C38/12;C22C38/16;C22C38/22;C22C38/20;C22C38/28 |
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| 地址: | 201900 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 搪玻璃 抗鱗爆性 珠光體 化學元素 質量百分比 微觀組織 雜質元素 軋后冷卻 鐵素體 熱軋 制造 冶煉 鑄造 | ||
本發明公開了一種具有優異抗鱗爆性的高強度搪玻璃用鋼,其化學元素質量百分比為:C:0.08~0.20%、Si:0.15~0.30%、Mn:0.8~1.5%、S:0.002~0.035%、Al:0.015~0.06%、N:0.002~0.010%、Ti:0.10~0.25%、Nb:0.001~0.030%,并且還含有:Cu:0.01~0.20%、Cr:0.01~0.20%、0<Ni≤0.10%和0<Mo≤0.10%的至少其中之一,余量為Fe和其他不可避免的雜質元素;其中所述高強度搪玻璃用鋼的微觀組織基體為鐵素體+珠光體,珠光體均勻、分散地分布在基體中,而不存在帶狀珠光體。此外,本發明還公開了一種具有優異抗鱗爆性的高強度搪玻璃用鋼的制造方法,包括步驟:(1)冶煉和鑄造;(2)熱軋;(3)軋后冷卻。本發明所述的具有優異抗鱗爆性的高強度搪玻璃用鋼具有較高的強度及優良的抗鱗爆性能。
技術領域
本發明涉及一種鋼及其制造方法,尤其涉及一種搪玻璃用鋼及其制造方法。
背景技術
搪玻璃工藝是將含有高二氧化硅組份的玻璃質釉料涂覆在鋼質基體表面,然后經過高溫燒結后玻璃質釉料牢固地附著于鋼質基體表面形成一種復合材料。以搪玻璃工藝制成的搪玻璃設備如搪玻璃反應釜、搪玻璃儲罐等兼有玻璃的穩定性和金屬的強度、韌性等雙重優點,具有良好的強度、剛度、耐磨性和耐腐蝕性,主要用于石化、醫藥、農藥、食品等行業。
鋼板是制作搪玻璃設備的關鍵材料之一,它既決定了整體結構的強度、韌性,又在很大程度上決定了搪玻璃的質量和整體設備的使用壽命。
現有技術中,搪玻璃專用鋼板的品種很少,我國搪玻璃用鋼絕大多數是Q235B、Q245R和Q345R等普通結構鋼板和壓力容器鋼板,這些鋼的成分特點是以碳錳為主,鋼中很少或不添加鈦、鈮和釩等合金元素,因此鋼中的碳主要以珠光體形式存在,其微觀組織為珠光體+鐵素體,其中珠光體的含量在15%~30%左右,而且大量的珠光體沿軋制方向呈帶狀分布。
在搪玻璃設備的制造過程中,加工后的鋼板要在870~930℃左右的高溫下經受6~8次的反復涂搪和燒成。在燒成過程中,一方面,鋼中的珠光體會在高溫燒成過程中發生分解并產生氣體,集聚形成氣泡。一般地,珠光體含量越高,燒成溫度越高或時間越長,則產生的氣泡越多,并且極容易在瓷層中形成過大、過多的氣泡,造成氣泡結構不良、表面氣泡缺陷等,損害瓷層質量。另一方面,在經受反復的加熱、冷卻過程后,頻繁地發生珠光體的分解和轉變(固態相變),極易產生鋼板本體的變形,也影響搪玻璃設備及其配件的質量。因此,在碳錳鋼中,選擇碳含量較高的鋼板來提高鋼板強度的方法會影響涂搪后的瓷層或瓷面質量。
基于此,期望獲得一種搪玻璃用鋼,該搪玻璃用鋼既具有較高的強度,又具有優異的涂搪性能和抗鱗爆性能。
發明內容
本發明的目的之一在于提供一種具有優異抗鱗爆性的高強度搪玻璃用鋼,通過合理的成分設計和制造工藝,使得該具有優異抗鱗爆性的高強度搪玻璃用鋼既具有較高的強度,且能夠同時具備良好的雙面涂搪性能及優良的抗鱗爆性能。
為了實現上述目的,本發明提出了一種具有優異抗鱗爆性的高強度搪玻璃用鋼,其化學元素質量百分比為:
C:0.08~0.20%、Si:0.15~0.30%、Mn:0.8~1.5%、S:0.002~0.035%、Al:0.015~0.06%、N:0.002~0.010%、Ti:0.10~0.25%、Nb:0.001~0.030%,并且還含有:Cu:0.01~0.20%、Cr:0.01~0.20%、0<Ni≤0.10%和0<Mo≤0.10%的至少其中之一,余量為Fe和其他不可避免的雜質元素;
其中所述高強度搪玻璃用鋼的微觀組織基體為鐵素體+珠光體,珠光體均勻、分散地分布在基體中,而不存在帶狀珠光體。
需要說明的是,上述方案中,其他不可避免的雜質元素主要包括P元素,可以控制P≤0.035%。
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